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申请/专利权人：科磊股份有限公司
摘要：本发明揭示用于检验光刻光罩的方法及设备。基于从设计数据库产生的光罩数据库图像来经由深度学习过程产生近场光罩图像，且基于所述近场光罩图像来经由基于物理的过程模拟检验系统的图像平面处的远场光罩图像。所述深度学习过程包含基于最小化所述远场光罩图像与通过使由所述设计数据库制造的训练光罩成像获取的多个对应训练光罩图像之间的差异来训练深度学习模型，且此类训练光罩图像根据图案多样性来选择且是无缺陷的。经由裸片到数据库过程来检验由所述设计数据库制造的测试光罩的测试区域的缺陷，所述裸片到数据库过程包含比较来自参考远场光罩图像的多个参考图像与由所述检验系统从所述测试光罩获取的多个测试图像。基于由所述经训练的深度学习模型产生的参考近场光罩图像来模拟所述参考远场光罩图像。
主权项：1.一种检验光刻光罩的方法，所述方法包括：输入由设计数据库的训练部分产生的多个光罩数据库图像至深度学习模型以产生多个近场光罩图像；将所述多个近场光罩图像接收至基于物理的模型中，经由基于物理的过程以模拟检验系统的图像平面处的多个对应远场光罩图像，提供多个对应训练光罩图像，所述多个对应训练光罩图像是通过使由所述设计数据库的所述训练部分制造的训练光罩的一部分成像而获得的，且此类训练光罩图像根据图案多样性来选择且是无缺陷的；通过调整所述深度学习模型的多个参数，并重复将所述多个光罩数据库图像输入具经调整的参数的所述深度学习模型的操作，以产生由所述基于物理的模型接收的多个经调整的近场图像，来训练所述深度学习模型，以模拟下一多个远场图像，直到下一个远场光罩图像与所述多个对应训练光罩图像之间的差异最小化；及在所述深度学习模型经训练后，经由裸片到数据库过程来检验由所述设计数据库制造的测试光罩的测试区域的缺陷，所述裸片到数据库过程包含比较来自参考远场光罩图像的多个参考图像与由所述检验系统从所述测试光罩获取的多个测试图像，其中通过所述基于物理的模型由参考近场图像来模拟所述参考远场光罩图像，所述参考近场图像通过来自所述设计数据库的测试部分的经训练的所述深度学习模型来产生，所述设计数据库的所述测试部分用于制造所述测试光罩的所述测试区域。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 科磊股份有限公司 使用机器学习检验光罩的系统和方法
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