龙图腾网&IPTOP
- 微信扫码登录
- 账号密码登录
- 短信登录/注册
买专利卖专利找龙图腾，真高效！ 查专利查商标用IPTOP,全免费！专利年费监控用IP管家,真方便！
申请/专利权人：镭亚股份有限公司
摘要：一种压印光刻模具缺陷减轻的方法和经掩模的压印光刻模具，其采用掩模层来选择性地覆盖表面缺陷。压印光刻模具缺陷减轻的方法包括在压印光刻模具的表面上沉积掩模层，以选择性地覆盖表面上的缺陷并形成经掩模的压印光刻模具。压印光刻模具缺陷减轻的方法还包括根据经掩模的压印光刻模具形成阴型压印光刻模具。经掩模的压印光刻模具包括压印光刻模具，所述压印光刻模具具有带缺陷的表面和附连到所述表面并被配置为选择性地覆盖缺陷的图案化的掩模层。选择性地覆盖缺陷的图案化的掩模层被配置为当经掩模的压印光刻模具用于压印光刻时减轻缺陷的影响。
主权项：1.一种压印光刻模具缺陷减轻的方法，所述方法包括：在压印光刻模具的表面上沉积掩模层，以选择性地覆盖所述表面上的缺陷并形成经掩模的压印光刻模具；以及根据所述经掩模的压印光刻模具形成阴型压印光刻模具。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 镭亚股份有限公司 压印光刻缺陷减轻方法和经掩模的压印光刻模具
免责声明
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
主营中国专利交易买卖与专利转让许可,高校科技成果推广与科技成果转化,知识产权运营管理与平台开发,科技人才专家库与科技猎头等科技服务
开放平台
担保交易
惠及多方
会员特惠
专属平台
适合多方
数据共享
功能齐全
皖公网安备 34010402703815号