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一种X射线双能量周期多层膜及其设计方法 

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申请/专利权人:中国科学院高能物理研究所

摘要:本发明公开了一种X射线双能量周期多层膜及其设计方法。本发明双能量周期多层膜,其特征在于,包括低能膜和高能膜,所述高能膜上设置所述低能膜;所述低能膜包括由两种不同原子序数的材料交替镀膜所得的多层膜;低能膜、高能膜中相同材料的膜层厚度相同,相邻两膜层为一个周期;入射光包括波长为λ1的较低能量X射线和波长为λ2的较高能量X射线;根据波长λ1、λ2和布拉格公式确定入射角θ以及低能膜的周期厚度d1、高能膜的周期厚度d2;低能膜用于对入射光中较低能量X射线进行反射;高能膜用于对入射光中穿透所述低能膜的较高能量X射线进行反射。本发明使得出射光同时包含两种特定的能量,大大提高了实验效率。

主权项:1.一种X射线双能量周期多层膜设计方法,其步骤包括:1对于包括波长λ1的较低能量X射线和波长λ2的较高能量X射线的入射光,确定制备低能膜和高能膜的材料;其中,所述高能膜设置在所述低能膜之上,所述低能膜、高层膜分别为由两种不同原子序数的材料交替镀膜所得的多层膜;所述低能膜中相同材料的膜层厚度相同,相邻两膜层为一个周期,周期厚度d1为所述低能膜中较高原子序数材料的膜层厚度与所述低能膜中较低原子序数材料的膜层厚度之和;所述高能膜中相同材料的膜层厚度相同,相邻两膜层为一个周期,周期厚度d2为所述高能膜中较高原子序数材料的膜层厚度与所述高能膜中较低原子序数材料的膜层厚度之和;2根据所述入射光中较低能量X射线的波长λ1、较高能量X射线的波长λ2和折射修正的布拉格公式确定所述低能膜与所述入射光之间的入射角θ以及周期厚度d1、d2;3根据镀膜精度、镀膜能力,选取膜层厚度误差δ、膜层界面粗糙度σ;4将波长λ1、波长λ2、入射角θ、周期厚度d1、周期厚度d2、膜层厚度误差δ和膜层界面粗糙度σ优化所述低能膜的厚度比Γ1、所述高能膜的厚度比Γ2以及所述高能膜的周期数为N2、所述低能膜的周期数为N1;其中,

全文数据:

权利要求:

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