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申请/专利权人：镭亚股份有限公司
摘要：一种纳米压印光刻模具、纳米压印光刻拼接系统和切割纳米压印光刻衬底方法，其采用具有精密边缘和底切侧壁的纳米压印光刻模具。精密边缘具有纳米级粗糙度，并且在距纳米压印光刻模具的特征预定距离处与纳米压印光刻模具的顶表面相邻。底切侧壁从精密边缘延伸到纳米压印光刻模具的底表面。底切侧壁具有远离精密边缘并朝向纳米压印光刻模具的中心成角度的表面。精密边缘和底切侧壁限定纳米压印光刻模具的一侧，该侧可以与一个或多个其他纳米压印光刻模具的相应侧邻接。
主权项：1.一种纳米压印光刻模具，包括：精密边缘，所述精密边缘具有纳米级粗糙度，并且所述精密边缘在距所述纳米压印光刻模具的特征预定距离处与所述纳米压印光刻模具的顶表面相邻地设置；以及底切侧壁，所述底切侧壁从所述精密边缘延伸到所述纳米压印光刻模具的底表面，所述底切侧壁具有远离所述精密边缘并朝向所述纳米压印光刻模具的中心部分成角度的表面，其中所述精密边缘和所述底切侧壁的组合限定所述纳米压印光刻模具的侧面。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 镭亚股份有限公司 纳米压印光刻模具、拼接系统和方法
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