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申请/专利权人：万华化学集团电子材料有限公司;万华化学集团股份有限公司
摘要：本发明涉及化学机械抛光技术领域，提供一种化学机械抛光组合物及其在钨化学机械抛光中的应用。本发明提供的化学机械抛光组合物能够兼顾良好的抛光速率和较低的缺陷水平。所述组合物包括分散介质、磨料、催化剂、氧化剂、第一腐蚀抑制剂、第二腐蚀抑制剂和EOE改善剂，还任选地包括稳定剂和pH调节剂；其中，所述第一腐蚀抑制剂选自分子中氨基和亚氨基的总数为1‑4，并且至少含有一个羧基的化合物中的一种或多种；所述第二腐蚀抑制剂选自分子中氨基和亚氨基的总数为2，并且至少含有一个酰胺基，且不含有羧基、羟基、烯基和炔基的化合物中的一种或多种；所述EOE改善剂选自高哌嗪及其衍生物中的一种或多种。
主权项：1.一种化学机械抛光组合物，其特征在于，所述组合物包括分散介质、磨料、催化剂、氧化剂、第一腐蚀抑制剂、第二腐蚀抑制剂和EOE改善剂，还任选地包括稳定剂和pH调节剂；其中，所述第一腐蚀抑制剂选自分子中氨基和亚氨基的总数为1-4，并且至少含有一个羧基的化合物中的一种或多种；所述第二腐蚀抑制剂选自分子中氨基和亚氨基的总数为2，并且至少含有一个酰胺基，且不含有羧基、羟基、烯基和炔基的化合物中的一种或多种；所述EOE改善剂选自高哌嗪及其衍生物中的一种或多种；基于所述组合物的总质量，所述第一腐蚀抑制剂和所述第二腐蚀抑制剂的总含量为0.01wt%-2.0wt%，并且，所述第二腐蚀抑制剂和所述第一腐蚀抑制剂的质量比为1-299；所述EOE改善剂的含量为15ppm-300ppm。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 万华化学集团电子材料有限公司 万华化学集团股份有限公司 化学机械抛光组合物及其在钨化学机械抛光中的应用
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