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申请/专利权人：拓荆科技(上海)有限公司
摘要：本发明公开了一种通气环、一种通气环的加工方法，以及一种薄膜沉积设备。上述通气环环绕于反应腔体内的喷淋板外周，通气环内设有空心的环形气体流道，其外侧设有至少一个通气孔，而其内侧设有多个导气孔，其中，气体流道的横截面积随其到通气孔的距离的增大而减小，用于调节气体流道内各位置的气体流阻，以使反应气体经由多个导气孔均匀地流至喷淋板下方的待加工的晶圆表面。通过采用上述通气环，能够确保在增大通气环内气体流量时，环内的气体流入点以及其他各处位置的气体流量分布均匀，解决了远离气体流入点所对应的环内气流量较大的问题，提高了环内气体分布的均一性。
主权项：1.一种通气环，环绕于反应腔体内的喷淋板外周，其特征在于，所述通气环内设有空心的环形气体流道，其外侧设有至少一个通气孔，而其内侧设有多个导气孔，其中，所述气体流道的横截面积随其到所述通气孔的距离的增大而减小，用于调节所述气体流道内各位置的气体流阻，以使反应气体经由所述多个导气孔均匀地流至所述喷淋板下方的待加工的晶圆表面。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 拓荆科技(上海)有限公司 通气环、通气环的加工方法以及薄膜沉积设备
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