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申请/专利权人：东京毅力科创株式会社
摘要：本发明的异物检测装置构成为能够检测基片处理用的处理液中含有的异物，包括：形成供对基片供给的上述处理液流动的处理液流路的处理液流路形成部；照射部，其构成为能够向处理液流路分别照射来自光源的照射光；和受光部，其构成为能够接收通过照射照射光而从处理液流路出射的光。照射部包括使照射多个处理液流路的照射光的光量彼此不同的光调节部。
主权项：1.一种异物检测装置，其特征在于：所述异物检测装置构成为能够检测基片处理用的处理液中含有的异物，包括：多个处理液流路形成部，其形成供对基片供给的所述处理液流动的处理液流路；照射部，其构成为能够向所述多个处理液流路的每一者单独地照射来自光源的照射光；和受光部，其构成为能够接收通过照射所述照射光而从所述处理液流路出射的光，所述照射部包括光调节部，所述光调节部使照射所述多个处理液流路的所述照射光的光量彼此不同。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 东京毅力科创株式会社 异物检测装置和异物检测方法
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