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申请/专利权人：华中科技大学;深圳华中科技大学研究院
摘要：本发明属于微纳光学器件制备领域，公开了一种利用附加压强调控微透镜面形的方法，包括以下步骤：1在衬底上涂覆光刻胶层并形成光刻胶胶柱结构；2将位于衬底上的光刻胶胶柱结构通过热回流工艺形成具有曲面面形的光刻胶结构，在热回流工艺的同时，通过压力控制装置施加附加压强，从而调节光刻胶结构的曲面面形；3使用刻蚀工艺，使光刻胶结构的曲面面形转移到衬底上，得到微透镜。本发明通过引入压力控制装置主动调控热回流时光刻胶外部环境气压，光刻胶在热回流过程中形成的曲面面形的受附加压强的调节，相当于在光刻胶的热回流过程中引入了一个新的调控参量，为面形调控提供了新途径，操作方便，调控灵活。
主权项：1.一种利用附加压强调控微透镜面形的方法，其特征在于，包括以下步骤：1在衬底上涂覆光刻胶层，并通过光刻、显影形成光刻胶胶柱结构；2将位于衬底上的光刻胶胶柱结构通过热回流工艺形成具有曲面面形的光刻胶结构，在热回流工艺的同时，通过压力控制装置施加附加压强，从而调节光刻胶结构的曲面面形；然后冷却；3使用刻蚀工艺，对步骤2得到的衬底及位于衬底上的具有曲面面形的光刻胶结构进行刻蚀，使光刻胶结构的曲面面形转移到衬底上，即可得到微透镜。
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百度查询： 华中科技大学 深圳华中科技大学研究院 一种利用附加压强调控微透镜面形的方法
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