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一种射频离子源发生装置及离子束刻蚀设备 

申请/专利权人:昂成精密仪器(深圳)有限公司

申请日:2023-11-20

公开(公告)日:2024-07-05

公开(公告)号:CN221282032U

主分类号:H01J37/08

分类号:H01J37/08;H01J37/305

优先权:

专利状态码:有效-授权

法律状态:2024.07.05#授权

摘要:本实用新型涉及离子源技术领域,具体涉及一种射频离子源发生装置及离子束刻蚀设备。该射频离子源发生装置包括壳体,以及设置在壳体内的气体反应模组,气体反应模组上连接有气体扩散组件,以及与气体扩散组件连接的进气组件,进气组件包括连接座、滑动连接在连接座上的第一气管,以及通过气体隔离器与第一气管连接的第二气管,连接座与壳体连接,第一气管上套设有弹性件,且弹性件抵持在气体隔离器和连接座之间,第二气管上设置有密封圈,第二气管与气体扩散组件的扩散器对接时,密封圈与扩散器抵持密封。采用上述方式,能够更好的防止气体泄漏,进而提升离子束流的均匀性,从而保证加工质量的稳定性。

主权项:1.一种射频离子源发生装置,其特征在于,包括:壳体,以及设置在所述壳体内的气体反应模组,所述气体反应模组上连接有气体扩散组件,以及与所述气体扩散组件连接的进气组件,所述进气组件包括连接座、滑动连接在所述连接座上的第一气管,以及通过气体隔离器与所述第一气管连接的第二气管,所述连接座与所述壳体连接,所述第一气管上套设有弹性件,且所述弹性件抵持在所述气体隔离器和所述连接座之间,所述第二气管上设置有密封圈,所述第二气管与所述气体扩散组件的扩散器对接时,所述密封圈与所述扩散器抵持密封。

全文数据:

权利要求:

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