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清洁系统、清洁设备、基站以及对位方法 

申请/专利权人:深圳瑞科时尚电子有限公司

申请日:2022-05-05

公开(公告)日:2024-07-05

公开(公告)号:CN114831542B

主分类号:A47L11/24

分类号:A47L11/24;A47L11/28;A47L11/40

优先权:

专利状态码:有效-授权

法律状态:2024.07.05#授权;2022.08.19#实质审查的生效;2022.08.02#公开

摘要:本申请提供一种清洁系统、清洁设备、基站以及对位方法,在清洁设备返回基站时,无需确保清洁设备的第一对位部件完全对准第二对位部件,只需第一对位部件和第二对位部件处于大致对准的范围内即可,而后通过所述导向部进行机械结构的导向,即能实现第一对位部件和第二对位部件的配合,进而使得清洁设备位于预设位置。因此,所述清洁系统无需采用高精度的定位设备,只需采用普通的红外定位设备等即可实现清洁设备与基站的大致对位即可,有助于降低清洁系统的成本。并且,通过导向部的设置,在清洁设备进行与基站的对位过程中无需过多地进行运动姿态的反复调整,减少了对位所需的时间,有助于提升清洁设备的运行效率,改善用户的使用体验。

主权项:1.一种清洁系统,其特征在于,包括,清洁设备,具有壳体、第一对接部和第一对位部件,所述第一对位部件具有对位凹陷,所述对位凹陷设置在所述壳体的一侧,所述对位凹陷的下侧还设有贯穿所述壳体的导向开口,所述导向开口具有向所述对位凹陷的内侧倾斜设置的导向壁;以及基站,具有第二对接部和第二对位部件,所述第二对位部件具有对位凸起,所述对位凸起的延伸方向为第一方向,与所述第一方向垂直且平行于水平面的方向为第二方向,所述导向开口在所述第二方向上的宽度大于所述对位凹陷在所述第二方向上的宽度,且所述第一对位部件和所述第二对位部件中的至少一者具有导向部,所述导向部用于将所述对位凸起导向至所述对位凹陷内,以调整所述清洁设备的运动姿态;当所述对位凸起配合至所述对位凹陷内时,所述清洁设备运动至预设位置,所述第一对接部与所述第二对接部相对接。

全文数据:

权利要求:

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