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一种余弦频偏频控阵波束合成方法 

申请/专利权人:阳光学院

申请日:2021-09-06

公开(公告)日:2024-07-05

公开(公告)号:CN113740808B

主分类号:G01S7/02

分类号:G01S7/02;H04B7/06

优先权:

专利状态码:有效-授权

法律状态:2024.07.05#授权;2021.12.21#实质审查的生效;2021.12.03#公开

摘要:本申请公开了一种余弦频偏频控阵波束合成方法,该方法包括:步骤1,根据阵元编号,确认频控阵的余弦频偏系数,并根据预设序号与余弦频偏系数进行累加求和,将累加求和结果记作余弦频偏;步骤2,根据参考编号,对余弦频偏进行移位运算,将移位运算结果记作斜率可控余弦频偏,并根据斜率可控余弦频偏和阵元位置,计算频控阵的余弦频率和相参相位,其中,参考编号由预计方向图斜率确定;步骤3,根据余弦频率和相参相位,确定频控阵的余弦频偏频控阵波束。通过本申请中的技术方案,降低了频偏频控阵波束宽度,有助于提高波束可控性和探测精度。

主权项:1.一种余弦频偏频控阵波束合成方法,其特征在于,该方法包括:步骤1,根据阵元编号,确认频控阵的余弦频偏系数,并根据预设序号与所述余弦频偏系数进行累加求和,将累加求和结果记作余弦频偏;步骤2,根据参考编号,对所述余弦频偏进行移位运算,将移位运算结果记作斜率可控余弦频偏,并根据所述斜率可控余弦频偏和阵元位置,计算所述频控阵的余弦频率和相参相位,其中,所述参考编号由预计方向图斜率确定;步骤3,根据所述余弦频率和所述相参相位,确定所述频控阵的余弦频偏频控阵波束,所述步骤1中,根据预设序号与所述余弦频偏系数进行累加求和,具体包括:步骤11,选取所述预设序号中与波束宽度调节参数α的最大公约数为预设值的序号,记作求和序号;步骤12,根据所述求和序号和频偏步长,对所述余弦频偏系数进行乘法变换,并采用累加求和的方式,根据乘法变换的结果计算所述余弦频偏,所述预设值为1,所述余弦频偏的计算公式为: 式中,Δfbm为所述余弦频偏,m为阵元编号,m=0,1,…,M-1,M为所述频控阵中的阵元数量,n为预设序号,α为所述波束宽度调节参数,gcdn,α=1为最大公约数筛选函数,Δf为频偏步长;所述波束宽度调节参数α的计算过程具体包括:步骤111,采用遍历的方式,计算参数范围内各个调节参数对应的参考余弦频偏以及各个所述参考余弦频偏对应的参考波束宽度,其中,所述参考波束宽度为3dB波束宽度;步骤112,选取所述参考波束宽度的单调区间中的最大单调区间,并在所述最大单调区间中选取与目标波束宽度最接近的参考波束宽度,将选取出的参考波束宽度对应的调节参数,记作所述波束宽度调节参数。

全文数据:

权利要求:

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