申请/专利权人：东京毅力科创株式会社

申请日：2019-11-28

公开（公告）日：2024-07-05

公开（公告）号：CN111312576B

主分类号：H01J37/32

分类号：H01J37/32

优先权：["20181212 JP 2018-232927","20190314 JP 2019-047550"]

专利状态码：有效-授权

法律状态：2024.07.05#授权;2021.10.01#实质审查的生效;2020.06.19#公开

摘要：本发明提供一种基片处理系统，其包括常压输送室、真空处理室、一个以上的装载互锁单元、真空输送室、多个安装部、第1输送机构、第2输送机构和控制部。多个安装部设置在常压输送室。多个安装部能够可拆装地安装多个保管部的每一个。控制部与第1输送机构和第2输送机构并行地执行以下输送，即：从保管部经由常压输送室和一个以上的装载互锁单元中的一个装载互锁单元向真空处理室去的消耗部件的输送；和从真空处理室经由真空输送室和一个以上的装载互锁单元中的另一个装载互锁单元的消耗部件的输送。根据本发明，能够缩短真空处理室内的消耗部件的更换时间，从而提高基片处理系统的工作效率。

主权项：1.一种基片处理系统，其特征在于，包括：用于在常压气氛下输送基片和消耗部件的常压输送室；第1真空处理室，其用于对基片进行处理，在所述基片的处理中配置有消耗部件，当该消耗部件在处理后成为使用完消耗部件而希望或需要进行更换的情况下，该消耗部件被更换为使用前消耗部件；真空输送室，其在减压气氛下输送所述基片以及包含所述使用完消耗部件或所述使用前消耗部件的消耗部件；2个以上的装载互锁单元，其配置在所述常压输送室与所述真空输送室之间，供被输送的所述基片和所述消耗部件通过；多个安装部，其设置在所述常压输送室，且具有能够使在多个保管部的各保管部与所述常压输送室之间被输送的所述基片或者所述消耗部件通过的端口，所述多个保管部用于收纳所述基片或者所述消耗部件，所述多个安装部能够可拆装地安装所述多个保管部的每一个；第1输送机构，其在所述2个以上的装载互锁单元与所述第1真空处理室之间经由所述真空输送室输送基片和消耗部件；第2输送机构，其在所述多个保管部与所述2个以上的装载互锁单元之间经由所述常压输送室输送所述基片和所述消耗部件；和控制部，其接受配置在所述第1真空处理室中的消耗部件的更换预约，并执行第一控制和第二控制中的至少一种控制，在所述第一控制中，在判断为至少在所述真空输送室、所述2个以上的装载互锁单元或所述常压输送室中存在输送中的处理前的基片时，将所述处理前的基片输送到第2真空处理室，在所述第二控制中，在判断为在与所述第1真空处理室不同的第3真空处理室中存在处理中的基片时，使所述基片在所述第3真空处理室中待机，直至所述消耗部件的更换处理结束，所述控制部，控制所述第1输送机构以执行第1输送工序，该第1输送工序包含从所述第1真空处理室取出所述使用完消耗部件的处理1，和经由所述真空输送室从所述第1真空处理室向所述2个以上的装载互锁单元中的一个装载互锁单元输送所述使用完消耗部件的处理2；控制所述第2输送机构以执行第2输送工序，该第2输送工序包含从所述多个保管部中的一个保管部取出所述使用前消耗部件的处理3，和从所述多个保管部中的一个保管部向所述2个以上的装载互锁单元中的另一个装载互锁单元输送所述使用前消耗部件的处理4，控制所述第1输送工序和所述第2输送工序，以使得所述第1输送工序和所述第2输送工序并行且以至少一部分重叠的时序执行。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 东京毅力科创株式会社 基片处理系统、输送方法、输送程序和保持器具

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