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高精度检测平台 

申请/专利权人:上海隐冠半导体技术有限公司

申请日:2024-03-27

公开(公告)日:2024-07-05

公开(公告)号:CN117948898B

主分类号:G01B11/02

分类号:G01B11/02;H01L21/66

优先权:

专利状态码:有效-授权

法律状态:2024.07.05#授权;2024.05.17#实质审查的生效;2024.04.30#公开

摘要:本发明提供了一种高精度检测平台。该高精度检测平台包括:基座系统,基座系统包括底座,底座上设置有凹陷;Y向运动系统,滑动地设置在底座上,包括主体部分,主体部分包括沿Y轴方向延伸的第一凹槽部分和沿X轴方向延伸的第二凹槽部分,第一凹槽部分向第二凹槽部分所在侧下凹,第二凹槽部分向第一凹槽部分所在侧下凹,主体部分在第一凹槽部分和第二凹槽部分的交叉区域形成通道,凹陷位于通道运动路径的正下方;X向运动系统,能够滑动地设置在第二凹槽部分内,X向运动系统包括卡盘,卡盘的中部设置有放置槽,通道位于放置槽运动路径的正下方。根据本发明的高精度检测平台,能够大幅度降低检测平台Z向尺寸,结构更加紧凑,检测效率更高。

主权项:1.一种高精度检测平台,其特征在于,包括:基座系统(101),所述基座系统(101)包括底座(1011),所述底座(1011)上设置有凹陷(10111);Y向运动系统(102),沿Y轴方向能够滑动地设置在所述底座(1011)上,所述Y向运动系统(102)包括主体部分(1021),所述主体部分(1021)包括沿Y轴方向延伸的第一凹槽部分(1029)和沿X轴方向延伸的第二凹槽部分(1022),所述第一凹槽部分(1029)位于所述主体部分(1021)朝向所述底座(1011)的一侧,并与所述基座系统(101)滑动配合,所述第二凹槽部分(1022)位于所述主体部分(1021)背离所述底座(1011)的一侧,所述第一凹槽部分(1029)向所述第二凹槽部分(1022)所在侧下凹,所述第二凹槽部分(1022)向所述第一凹槽部分(1029)所在侧下凹,所述主体部分(1021)在所述第一凹槽部分(1029)和所述第二凹槽部分(1022)的交叉区域形成通道(10211),所述凹陷(10111)位于所述通道(10211)运动路径的正下方;X向运动系统(103),能够滑动地设置在所述第二凹槽部分(1022)内,并由所述第二凹槽部分(1022)形成滑动导向,所述X向运动系统(103)包括卡盘(1031),所述卡盘(1031)的中部设置有放置槽(10311),所述通道(10211)位于所述放置槽(10311)运动路径的正下方;所述Y向运动系统(102)的Z向高度为所述第一凹槽部分(1029)和第二凹槽部分(1022)的Z向深度之和,或者为所述第一凹槽部分(1029)的Z向深度、所述第二凹槽部分(1022)的Z向深度,再加上所述第一凹槽部分(1029)的槽底和所述第二凹槽部分(1022)的槽底之间的Z向间隔之和;所述X向运动系统(103)的顶面高度低于所述Y向运动系统(102)的顶面高度或与所述Y向运动系统(102)的顶面高度齐平。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 上海隐冠半导体技术有限公司 高精度检测平台

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