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申请/专利权人：江苏天芯微半导体设备有限公司
申请日：2024-06-06
公开（公告）日：2024-07-05
公开（公告）号：CN118292101A
主分类号：C30B25/02
分类号：C30B25/02;C30B25/12;C30B25/14;H01J37/32;H01L21/67
优先权：
专利状态码：在审-实质审查的生效
法律状态：2024.07.23#实质审查的生效;2024.07.05#公开
摘要：本发明提供一种外延设备，包括：反应腔；基座，所述基座设置于所述反应腔内；基座支撑部，所述基座支撑部用于支撑所述基座，并带动所述基座旋转和升降；销支撑部，所述销支撑部与所述基座支撑部同轴设置，且所述销支撑部套设于所述基座支撑部的外部；其中，所述基座支撑部中形成吹扫通道，所述吹扫通道配置为随着所述基座支撑部的旋转而旋转吹扫口，以实现脉冲式定向吹扫所述反应腔的腔体底部的上表面。本发明提供的外延设备设置吹扫口，可以防止下穹顶的内表面上生成反应副产物的发生。
主权项：1.一种外延设备，其特征在于，包括：反应腔；基座，所述基座设置于所述反应腔内；基座支撑部，所述基座支撑部用于支撑所述基座，并带动所述基座旋转和升降；销支撑部，所述销支撑部与所述基座支撑部同轴设置，且所述销支撑部套设于所述基座支撑部的外部；其中，所述基座支撑部中形成吹扫通道，所述吹扫通道配置为随着所述基座支撑部的旋转而旋转吹扫口，以实现脉冲式定向吹扫所述反应腔的腔体底部的上表面；所述基座支撑部包括轴，所述基座支撑部以所述轴为中心旋转，所述轴的中心设置通道以形成所述吹扫通道；所述通道包括连通的轴向通道和末端通道，所述轴向通道沿着所述轴的轴向延申，所述末端通道对准所述腔体底部的上表面，所述吹扫口为设置于所述末端通道位于末端的出气端；所述销支撑部包括空心轴，所述空心轴上设置出气口，所述出气口对应设置于所述吹扫通道的所述吹扫口并对准所述腔体底部的上表面。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 江苏天芯微半导体设备有限公司 一种外延设备
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