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申请/专利权人：华芯程(杭州)科技有限公司
申请日：2024-06-06
公开（公告）日：2024-07-05
公开（公告）号：CN118299285A
主分类号：H01L21/66
分类号：H01L21/66;H01L21/027;G03F7/00;G06T7/00
优先权：
专利状态码：在审-实质审查的生效
法律状态：2024.07.23#实质审查的生效;2024.07.05#公开
摘要：本申请提供多重图形蚀刻补偿方法、装置、介质、程序产品及终端，通过将不同图层间的相互作用解耦为一个基本蚀刻偏差规则表和一个蚀刻偏差规则修正表，实现了对多重图形化工艺中多图层图案蚀刻偏差影响的准确表征。此外，还特别设计了单图层和多图层蚀刻偏差数据收集图案，并针对经历了多个蚀刻步骤的图层，采用分步建立蚀刻偏差规则表、累加补偿，并对生成的蚀刻偏差数据进行了平滑处理的方式，保证了蚀刻偏差补偿的一致性和连续性。本申请仅通过了两个二维表解决了现有方法无法适应多重图形化工艺和无法对不同图层间相互影响进行补偿的问题，并且没有增加额外复杂性或降低程序运行速度，具有较强的实用性。
主权项：1.一种多重图形蚀刻补偿方法，其特征在于，所述方法包括：获取单图层测试图案和多图层测试图案；在多重图形化中，对每一工艺步骤，分别获取对应所述单图层测试图案的单图层测量偏差值，以及对应所述多图层测试图案的多图层测量偏差值；对于每个工艺步骤，基于单图层测试图案和当前工艺步骤的单图层测量偏差值，构建当前步骤的基本蚀刻偏差规则表，在涉及多图层的情况下，基于多图层测试图案和当前步骤的多图层测量偏差值，构建当前步骤的蚀刻偏差规则修正表，供对当前待补偿图案进行蚀刻偏差补偿。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 华芯程(杭州)科技有限公司 多重图形蚀刻补偿方法、装置、介质、程序产品及终端
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