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单分散微细气泡生成装置及气泡生成方法 

申请/专利权人:清华大学

申请日:2024-04-17

公开(公告)日:2024-07-05

公开(公告)号:CN118286900A

主分类号:B01F23/2375

分类号:B01F23/2375;B01F33/30

优先权:

专利状态码:在审-实质审查的生效

法律状态:2024.07.23#实质审查的生效;2024.07.05#公开

摘要:本发明涉及一种单分散微细气泡生成装置及气泡生成方法。单分散微细气泡生成装置包括基体和微细气泡三维生成结构;基体上设有气体进料通道、气液两相流动通道及两个液体进料通道,两个液体进料通道沿第一方向对称设置于气体进料通道水平方向的两侧,且均与气体进料通道的端部连通;微细气泡三维生成结构包括聚焦通道,位于气体进料通道和气液两相流动通道之间,并与气体进料通道和气液两相流动通道分别连通;聚焦通道的深度和宽度均小于气体进料通道深度和宽度,且与气体进料通道的中心线在深度方向上重合。通过聚焦通道的深度和宽度均小于气体进料通道的深度和宽度,减少了液相流量在气泡生成过程的渗流,提高了液相的利用率。

主权项:1.一种单分散微细气泡生成装置,其特征在于,所述单分散微细气泡生成装置包括:基体,所述基体上设有气体进料通道、气液两相流动通道及两个液体进料通道,两个所述液体进料通道沿第一方向对称设置于所述气体进料通道的两侧,且均与所述气体进料通道的端部连通,所述气液两相流动通道位于所述气体进料通道靠近所述液体进料通道的一侧;微细气泡三维生成结构,包括聚焦通道,所述聚焦通道设置于所述基体,且位于所述气体进料通道和所述气液两相流动通道之间,并与所述气体进料通道和所述气液两相流动通道分别连通,以使流入所述液体进料通道的液相和流入所述气体进料通道的气相,经由所述聚焦通道流入所述气液两相流动通道,以产生气泡;所述聚焦通道的深度和宽度均小于所述气体进料通道深度和宽度,且所述聚焦通道和所述气体进料通道的中心线在深度方向上重合。

全文数据:

权利要求:

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