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申请/专利权人：光技光电集团日本分公司

摘要：反应处理装置30包括：反应处理容器10；对样本照射第1激发光并对样本产生的第1荧光进行检测的第1荧光检测装置50；以及对样本照射第2激发光并对样本产生的第2荧光进行检测的第2荧光检测装置54。第1荧光的波长范围和第2激发光的波长范围的至少一部分重叠。第1激发光及第2激发光以规定的占空比闪烁发光，在将第1激发光和第2激发光的闪烁的占空比设为d时，第1激发光和第2激发光的闪烁的相位差被设定在2πpm‑Δpm[rad]～2πpm+Δpm[rad]的范围内、或2π{1‑pm‑Δpm}[rad]～2π{1‑pm+Δpm}[rad]的范围内其中pm＝d‑d2及Δpm＝0.01×pm。

主权项：1.一种反应处理装置，其特征在于，包括：反应处理容器，其形成有供样本移动的流路，第1荧光检测装置，其使第1激发光照射所述流路中设定的第1荧光检测区域中的样本，并对通过所述第1激发光的照射而从样本产生的第1荧光进行检测，以及第2荧光检测装置，其使第2激发光照射所述流路中设定的第2荧光检测区域中的样本，并对通过所述第2激发光的照射而从样本产生的第2荧光进行检测；所述第1荧光的波长范围和所述第2激发光的波长范围的至少一部分重叠，所述第1激发光及所述第2激发光以规定的占空比闪烁发光，在将所述第1激发光和所述第2激发光的闪烁的占空比设为d时，所述第1激发光与所述第2激发光的闪烁的相位差被设定在2π（pm-Δpm）[rad]~2π（pm+Δpm）[rad]的范围内、或2π{（1-pm）-Δpm}[rad]~2π{（1-pm）+Δpm}[rad]的范围内，其中pm=d-d2及Δpm=0.01×pm，所述流路具备：维持在第1温度的第1温度区域；维持在高于所述第1温度的第2温度的第2温度区域；以及连接所述第1温度区域和所述第2温度区域的连接流路，所述第1荧光检测装置具备照射所述第1激发光并接收所述第1荧光的第1光学头，所述第2荧光检测装置具备照射所述第2激发光并接收所述第2荧光的第2光学头，所述第1光学头及所述第2光学头以检测来自所述连接流路内的样本的荧光的方式配置，在所述第1光学头及所述第2光学头的数值孔径处于0.07~0.23的范围内的情况下，所述第1荧光检测区域的中心与所述第2荧光检测区域的中心之间的距离被设定为4mm以上。

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权利要求：

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