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申请/专利权人：株式会社尼康
摘要：一种光学成像、反射系统、曝光工具、设备及装置制造方法。所述反射系统具有参考轴以及第一反射镜、第二反射镜及第三反射镜。所述第一反射镜含有承载实质上一维图案的图案源。所述第二反射镜及所述第三反射镜的组合被配置成：在极紫外线光中利用仅有的两束光以N1的减缩因数形成图案的光学图像，所述仅有的两束光因以入射于第一反射镜上的光辐照所述第一反射镜而起源于所述第一反射镜处。
主权项：1.一种光学成像系统，具有光轴且包括：凸面反射镜单元，在其中界定第一开口；凹面反射镜单元，在其中界定第二开口；以及元件，设置于所述光轴上位于所述凸面反射镜单元与所述凹面反射镜单元之间，所述光学成像系统被配置成在所述凸面反射镜单元的表面处接收经由所述第二开口以两束辐射的形式被递送至所述光学成像系统的光学辐射，且在所述光学辐射已自所述凹面反射镜单元的表面反射之后且在所述光学辐射已穿过所述第一开口之后，通过以所述光学辐射辐照图像平面而形成物体的图像，其中所述两束辐射是在所述凹面反射镜单元的所述表面处接收的仅有的两束辐射且用以形成所述图像，且所述两束辐射各自被所述凸面反射镜单元及所述凹面反射镜单元反射的次数的合计为2次，所述元件接收且阻挡穿过起源于所述物体的所述两束辐射之间的第零级衍射光，所述第零级衍射光由照明光产生，所述照明光被所述元件反射后在所述物体处被接收。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 株式会社尼康 光学成像、反射系统、曝光工具、设备及装置制造方法
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