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申请/专利权人：株式会社ORC制作所
摘要：本发明提供曝光装置，在配置有具备微透镜阵列的投影光学系统的曝光装置中，将高分辨率的图案投影于曝光面的大范围。曝光装置10的投影光学系统25具有第1成像光学系统30、MLA32、分割光学系统40、第2成像光学系统50，分割光学系统40将由DMD22调制后的光的图案像分割成4个分割图案像DA1、DA2、DA3、DA4，并投影于沿副扫描方向Y方向相连的扫描带区域SB2、SB1、SB4、SB3。并且，将MLA32配置于第1成像光学系统30的第1成像面FS的位置，分割光学系统40接近MLA32而配置。
主权项：1.一种曝光装置，其特征在于，该曝光装置具有投影光学系统，该投影光学系统将由光调制元件阵列调制后的光投影于被描绘体的曝光面，所述投影光学系统具有：第1成像光学系统，其使图案像的光成像于第1成像面；微透镜阵列，该微透镜阵列的各微透镜按照所述第1成像面而配置；分割光学系统，其在透过所述微透镜阵列后的光所入射的、位置与所述第1成像面不一致的入射面处，将图案像分割；以及第2成像光学系统，其使通过所述分割光学系统所形成的多个分割图案像的光成像于被描绘体的曝光面。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 株式会社ORC制作所 曝光装置
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