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申请/专利权人：上村工业株式会社
摘要：本发明公开了一种化学镀钌浴，其至少含有钌化合物、还原剂以及稳定剂，还原剂是氨硼烷化合物及次磷酸钠中的至少一种，稳定剂由羟胺化合物和胺类化合物构成，羟胺化合物是硫酸羟胺及氯化羟胺中的至少一种。该化学镀钌浴使用作为一般还原剂的氨硼烷化合物或次磷酸钠，能够提高浴稳定性，并且钌的析出性优异。
主权项：1.一种化学镀钌浴，至少含有钌化合物、还原剂以及稳定剂，其特征在于：所述还原剂是氨硼烷化合物及次磷酸钠中的至少一种，所述稳定剂由羟胺化合物和胺类化合物构成，所述羟胺化合物是硫酸羟胺及氯化羟胺中的至少一种。
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