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申请/专利权人：中国原子能科学研究院
申请日：2024-03-27
公开（公告）日：2024-06-25
公开（公告）号：CN118241172A
主分类号：C23C14/35
分类号：C23C14/35;C23C14/02;C23C14/08;C23C14/58
优先权：
专利状态码：在审-公开
法律状态：2024.06.25#公开
摘要：本申请的实施例涉及磁控溅射技术领域，特别涉及一种在过渡族难熔金属表面制备涂层的方法，方法包括如下步骤：S1：对待进行涂敷的过渡族难熔金属表面进行处理，使其表面光滑；S2：对S1步骤处理后的待进行涂敷的过渡族难熔金属表面在氩气条件下进行偏压反溅射清洗；S3：对预定金属在氩气条件下进行溅射；S4：使用S3步骤获得的溅射后的预定金属对S2步骤获得的过渡族难熔金属表面在氩气和氧气混合气体条件下进行溅射，以涂敷预定金属；S5：对S4步骤获得的经涂敷后的过渡族难熔金属去应力和矫正变形处理。本申请的实施例提供的方法可以在过渡族难熔金属表面制备含氧量均匀且与过渡族难熔金属结合效果好的涂层。
主权项：1.一种在过渡族难熔金属表面制备涂层的方法，其特征在于，其包括如下步骤：S1：对待进行涂敷的过渡族难熔金属表面进行处理，使其表面光滑；S2：对S1步骤处理后的待进行涂敷的过渡族难熔金属表面在氩气条件下进行偏压反溅射清洗；S3：对作为靶材的预定金属在氩气条件下进行溅射；S4：使用S3步骤获得的溅射后的预定金属作为靶材对S2步骤获得的过渡族难熔金属表面在氩气和氧气混合气体条件下进行溅射，以涂敷所述预定金属；S5：对S4步骤获得的经涂敷后的过渡族难熔金属去应力和矫正变形处理。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 中国原子能科学研究院 在过渡族难熔金属表面制备涂层的方法
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