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【发明公布】中子屏蔽材料及其制造方法_国立大学法人京都大学;斯泰拉化工公司_202280075768.8 

申请/专利权人:国立大学法人京都大学;斯泰拉化工公司

申请日:2022-11-09

公开(公告)日:2024-06-21

公开(公告)号:CN118235214A

主分类号:G21F3/00

分类号:G21F3/00;G21F1/10

优先权:["20211116 JP 2021-186130"]

专利状态码:在审-公开

法律状态:2024.06.21#公开

摘要:本发明提供一种具有良好的透光性且对热中子束的屏蔽性能优异的中子屏蔽材料及其制造方法。本发明涉及的中子屏蔽材料的特征在于,包含含有透光性材料和富集了质量数为10的硼同位素的硼化合物且具有透光性的成型物,通过含有富集了质量数为10的硼同位素的硼化合物作为硼化合物,实现对热中子束的屏蔽性能的提高。其结果,能够广泛应用于需要可视性和中子屏蔽性的构件。

主权项:1.一种中子屏蔽材料,其特征在于,包含具有透光性的成型物,所述成型物含有透光性材料和富集了质量数为10的硼同位素的硼化合物。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 国立大学法人京都大学;斯泰拉化工公司 中子屏蔽材料及其制造方法

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