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辐射剂量监测装置、后处理厂排风过滤系统和控制方法 

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申请/专利权人:中国核电工程有限公司

摘要:本发明公开一种辐射剂量监测装置、后处理厂排风过滤系统和控制方法,该装置包括:准直单元、驱动组件和探测器。准直单元的数量为多个,多个准直单元沿第一轴线方向间隔排列设置。每个准直单元均对应于一个待检测的工艺设备,准直单元包括测量套筒和屏蔽套,屏蔽套的侧壁上开设有准直孔,准直孔朝向待测的工艺设备。探测器与驱动组件连接,驱动组件用于带动探测器沿第一轴线方向来回移动,还用于带动探测器沿第二轴线方向伸入测量套筒内并运动至正对准直孔,从而对工艺设备的辐射剂量进行监测。该装置能高效且低成本地对大量的工艺设备实现辐射剂量监测。

主权项:1.一种辐射剂量监测装置,其特征在于,包括:准直单元3、驱动组件1和探测器4;所述准直单元3的数量为多个,多个准直单元3沿第一轴线方向间隔排列设置,每个准直单元3均对应于一个待检测的工艺设备5,所述准直单元3包括测量套筒31和屏蔽套32,所述测量套筒31的中心轴线沿第二轴线方向延伸,第二轴线方向与所述第一轴线方向垂直,测量套筒31的一端设置为进入口,另一端与屏蔽套32的内腔连通,所述屏蔽套32的侧壁上开设有准直孔33,所述准直孔33朝向待测的工艺设备5,所述探测器4与所述驱动组件1连接,所述驱动组件1用于带动探测器4沿第一轴线方向巡回移动,并依次定位于多个测量套筒31的进入口的位置,所述探测器4朝向所述进入口,所述驱动组件1还用于带动探测器4沿第二轴线方向移动,使得探测器4向测量套筒31内伸入至正对所述准直孔33的位置,从而对所述工艺设备5的辐射剂量进行监测,并在对当前工艺设备5的监测结束后,带动探测器4退出所述测量套筒31,移动至下一测量套筒31进行辐射剂量监测。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 中国核电工程有限公司 辐射剂量监测装置、后处理厂排风过滤系统和控制方法

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