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过渡金属掺杂MoSe2膜及其制备方法和应用、CZTSSe电池 

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申请/专利权人:许昌学院

摘要:本发明提供了一种过渡金属掺杂MoSe2膜及其制备方法和应用、CZTSSe电池。该过渡金属掺杂MoSe2膜厚度为60‑90nm,过渡金属为V、Nb或Ta。其制备为:1在Mo薄膜表面沉积一层过渡金属膜;2将沉积过渡金属膜的Mo薄膜与过量硒粒一起密封后,在惰性气体氛围下进行热退火处理,自然冷却至室温即得过渡金属掺杂MoSe2膜。本发明通过在MoSe2中掺杂过渡金属元素,用于CZTSSe电池中时,促使CZTSSe吸收层和MoSe2由肖特基接触转变成欧姆接触,降低背界面载流子传输势垒,降低界面复合,提高器件的光电转换效率,所得CZTSSe太阳能电池背界面势垒较低,光电转换效率有明显提升。

主权项:1.一种过渡金属掺杂MoSe2膜,其特征在于,所述膜厚度为60-90nm,所述过渡金属为V、Nb或Ta。

全文数据:

权利要求:

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