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申请/专利权人：中国科学院微电子研究所;真芯(北京)半导体有限责任公司
申请日：2021-02-26
公开（公告）日：2022-08-30
公开（公告）号：CN114962269A
专利技术分类：
专利摘要：本申请公开了一种真空泵及真空泵系统。真空泵包括：泵本体；出气管，与泵本体相连接；输气装置，设置在出气管内；输气装置包括管状主体以及至少一根输气管；管状主体包括细管段和分别位于细管段两侧的第一粗管段和第二粗管段，细管段的内径小于第一粗管段且小于第二粗管段的内径；输气管的第一端位于第一粗管段内，第二端依次穿过第一粗管段的管壁、出气管的管壁伸出到出气管外部，且第一端的开口方向朝向细管段。本申请的真空泵通过输气管向出气管内输入高速氮气，能够使整个出气管内的排气速度更高，排气更加顺畅，能够排出泵本体内的粉尘，避免因真空泵内的粉尘积聚造成的真空泵性能下降。
专利权项：1.一种真空泵，其特征在于，包括：泵本体；出气管，与所述泵本体相连接；输气装置，设置在所述出气管内；其中，所述输气装置包括管状主体以及至少一根输气管；所述管状主体包括细管段和分别位于所述细管段两侧的第一粗管段和第二粗管段，所述细管段、所述第一粗管段和所述第二粗管段一体成型，所述细管段的内径小于所述第一粗管段且小于所述第二粗管段的内径；所述出气管内的气体流动方向为依次通过所述第一粗管段、所述细管段、所述第二粗管段和所述出气管的出气口；所述输气管的第一端位于所述第一粗管段内，所述第二端依次穿过所述第一粗管段的管壁、所述出气管的管壁伸出到所述出气管外部，且所述第一端的开口方向朝向所述细管段。
百度查询： 中国科学院微电子研究所 真芯(北京)半导体有限责任公司 真空泵及真空泵系统
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