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Si@void@C嵌入三维多孔碳网负极材料及其制备与应用 

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申请/专利权人:齐鲁工业大学

摘要:本发明公开了Si@void@C嵌入三维多孔碳网负极材料及其制备与应用。本发明我们以商业化的纳米硅粒子为研究体系,采用光敏化聚合苯乙烯~硅纳米离子乳液、高温煅烧热处理与水热相结合的方式控制合成核壳结构Si@void@C嵌入三维多孔碳网的复合材料。通过紫外光照射聚合苯乙烯,形成聚苯乙烯,高温热解形成碳源,合成工艺简单、绿色,苯乙烯单体价格低廉。本发明避免了以往核壳结构Si@void@C研究工作中涉及的繁复模板引入及其腐蚀性HF对环境的破坏,有效地提升了Si纳米粉体的循环比容量与稳定性,降低了材料成本,有望实现商业化大规模生产。

主权项:1.Si@void@C嵌入三维多孔碳网负极材料的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:(1)将硅粉超声分散于去离子水溶液中,得到被水化膜包裹的硅粉;(2)以Tween80、Span85和苯乙烯单体作为油相,称取硅烷偶联剂和光敏剂依次放入油相中,超声处理得到油相溶液;(3)将被水化膜包裹的硅粉与油相溶液混合并乳化搅拌,再进行紫外线照射,然后真空冷冻干燥,再送入Ar气环境中碳化,最后经水热处理得到灰黑色产物。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 齐鲁工业大学 Si@void@C嵌入三维多孔碳网负极材料及其制备与应用

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