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申请/专利权人：上海鸿辉光通科技股份有限公司

摘要：本实用新型公开了一种PHOTO离心机挡盖，用于离心机的气流导向，包括挡盖的盖体；挡盖的盖体上径向分布有若干个气流导向孔；气流导向孔的数量为9个，沿挡盖盖体的内面居中径向等间隔分布；气流导向孔均为直径在0.8cm‑1.2cm范围之间的通孔。通过对挡盖气流导向孔的直径以及位置分布的变动，有效的控制气流负压数值及对匀胶过程中胶层的分布，通过改造后晶圆匀胶后uniformity数值从2.8％下降至1％以内，大大提高了晶圆表层涂胶后胶层的均匀性，使在图形复刻曝光过程中能更好更精确的对MASK即掩膜版进行图形复刻。

主权项：一种PHOTO离心机挡盖，用于离心机的气流导向，包括挡盖的盖体；其特征在于，所述挡盖的盖体上径向分布有若干个气流导向孔；所述气流导向孔的数量为9个，沿所述挡盖盖体的内面居中径向等间隔分布；所述气流导向孔均为直径在0.8cm‑1.2cm范围之间的通孔。

全文数据：一种PHOTO离心机挡盖技术领域[0001]本实用新型属于PLC晶圆生产设备技术领域，涉及PHOTO离心机，具体地说，涉及一种PHOTO离心机挡盖。背景技术[0002]在PLC晶圆生产中，利用PHOTO离心机进行图形复刻作为第二道也是最重要的一道工序，但是，由于PHOTO离心机属于常规大气压设备，生产工艺过程中，离心机挡盖的气流导向孔的位置分布以及孔径的大小都会直接影响到句胶后的uniformity均勾性）。[0003]现有技术中的PHOTO匀胶离心机挡盖大都采用12个呈径向分布的直径为丨⑶及丄个位于挡盖中心部位的直径为2•5cm的气流导向孔，如图1所示。实验数据表明，此状态下，晶圆匀胶后的胶层的uniformity均匀性为2.8%。只能满足传统的PLC晶圆生产工艺要求，无法进一步满足高精产品新工艺的要求。[0004]因此，对于现有的PHOTO匀胶离心机挡盖的改进势在必行，以达到提高pLC晶圆匀胶后的uniformity均匀性效果。发明内容[0005]本实用新型的目的是克服现有技术的不足或缺陷，提供一种PHOTO离心机挡盖，提高PLC晶圆匀胶后的胶层均匀性，最终能更好的在pH0T0图形复刻中提高图形精度。[0006]为了实现上述目的，本实用新型采用了如下技术方案：[0007]一种™〇TO离心机挡盖，用于离心机的气流导向，包括挡盖的盖体;其特征在于，所述挡盖的盖体上径向分布有若干个气流导向孔；[0008]所述气流导向孔的数量为9个，沿所述挡盖盖体的内面居中径向等间隔分布;所述气流导向孔均为直径在0.8cm-l•2cm范围之间的通孔。[0009]与现有技术相比，本实用新型具有以下有益效果：[0010]通过对挡盖气流导向孔的直径以及位置分布的变动，有效的控制气流负压数值及对匀胶过程中胶层的分布，实际改动为表面仅采用9个直径在O.Scm—i.2cm范围之间的的气流导向孔，通过改造后晶圆匀胶后uniformity数值从2.8%下降至1%以内，大大提高了晶圆表层涂胶后胶层的均匀性，使在图形复刻曝光过程中能更好更精确的对MASK掩膜版进行图形复刻。附图说明[0011]图1是传统PHOTO离心机挡盖气流导向孔的分布结构示意图；[0012]图2是本实用新型涉及的PHOTO离心机挡盖气流导向孔的分布结构示意图。具体实施方式[0013]下面将结合附图，对本实用新型作进一步说明。^向，其本实腦’通酸^齡㈣盖，肝糾、机的气流[0015]傭挡盖体1;挡盖的盖体丨上径向分柿轩个气流导向孔[0016]本实用新型涉及的气流导向孔ia的数量为9个，沿挡盖盖体i的内面居中径向等间隔分布;气流导向孔la均为直径在o.Scm-Hm范围之间的通孔。[0017]本实施例中，气流导向孔la的直径Si.Ocm。[0018]通过对挡盖气流导向孔的直径以及位置分布的变动，有效的控制气流负压数值及对匀胶过程中胶层的分布，实际改动为表面仅采用9个直径在〇.8cm-l.2cm范围之间的的气流导向孔，通过改造后晶圆勾胶后uniformity数值从2.8%下降至1%以内，大大提高了晶圆表层涂胶后胶层的均匀性，使在图形复刻曝光过程中能更好更精确的对MASK掩膜版进行图形复刻。[0019]以上实施例仅供说明本实用新型之用，而非对本实用新型的限制，有关技术领域的技术人员，在不脱离本实用新型的精神和范围的情况下，还可以作出各种变换或变型，因此所有等同的技术方案也应该属于本实用新型的范畴，应由各权利要求所限定。

权利要求：挡至几I?，，于离心_气流导向，包括挡盖的盖体;其特征在于，所述挡盖的盖体上径向分布有若干个气流导向孔；所述气流导向孔的数量为9个，沿所述挡盖盖体的内面居中径向等间隔分布；所述气流导向孔均为直径在0•8cm-1•2cm范围之间的通孔。

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