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申请/专利权人：深圳市绎立锐光科技开发有限公司
申请日：2014-12-12
公开（公告）日：2016-07-06
公开（公告）号：CN105739101A
专利技术分类：.其他位置不包括的光束整形，例如改变横截面积[2006.01]
专利摘要：本发明公开了一种匀光结构及匀光系统，包括：匀光基板，匀光基板包括基板本体，和位于基板本体任意一表面的第一图案结构，第一图案结构包括多个微结构，用于对照射到其表面的入射光束进行匀光；以及，位于匀光基板任意一表面一侧的反射层，且反射层的反射面朝向匀光基板。在匀光基板的任意一表面设置一反射层，当入射光束照射到匀光基板未设置反射层一侧表面时，部分光线被该表面反射；而后部分光线入射至反射层的表面后，被反射出匀光基板，因此被匀光结构匀光后的光束为二次反射后的光束。即本发明提供的匀光结构将高斯分布的入射光束，整形为平顶分布的光束，该光束扩散角度小，有利于光束的收集，满足了显示系统体积小、质量轻等要求。
专利权项：一种匀光结构，其特征在于，包括：匀光基板，所述匀光基板包括基板本体，和位于所述基板本体任意一表面的第一图案结构，所述第一图案结构包括多个微结构，用于对照射到其表面的入射光束进行匀光；以及，位于所述匀光基板任意一表面一侧的反射层，且所述反射层的反射面朝向所述匀光基板。
百度查询： 深圳市绎立锐光科技开发有限公司 匀光结构及匀光系统
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