恭喜三星显示有限公司金辉获国家专利权
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龙图腾网恭喜三星显示有限公司申请的专利沉积掩模和制造该沉积掩模的方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN111384312B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-01-14发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：201911371916.7，技术领域涉及：H10K71/16；该发明授权沉积掩模和制造该沉积掩模的方法是由金辉;金仁培;任星淳;黄圭焕设计研发完成，并于2019-12-27向国家知识产权局提交的专利申请。
本沉积掩模和制造该沉积掩模的方法在说明书摘要公布了：提供了一种沉积掩模和制造该沉积掩模的方法。所述制造沉积掩模的方法包括：制备掩模目标基底，所述掩模目标基底具有其上形成有牺牲层图案的一个表面，并且包括被牺牲层图案覆盖的覆盖区域和被牺牲层图案暴露的多个暴露区域；通过朝向掩模目标基底发射激光在掩模目标基底的暴露区域中形成孔；以及去除牺牲层图案，其中，牺牲层图案具有针对激光的比掩模目标基底的反射率高的反射率。
本发明授权沉积掩模和制造该沉积掩模的方法在权利要求书中公布了：1.一种制造沉积掩模的方法，所述方法包括：制备掩模目标基底，所述掩模目标基底具有其上设置有牺牲层图案的表面，并且包括被所述牺牲层图案覆盖的覆盖区域和被所述牺牲层图案暴露的多个暴露区域；通过朝向所述掩模目标基底发射激光在所述掩模目标基底的所述多个暴露区域中形成孔；以及将所述牺牲层图案去除，其中，所述牺牲层图案的针对所述激光的反射率比所述掩模目标基底的针对所述激光的反射率高。
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1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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