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龙图腾网恭喜华中科技大学申请的专利一种光刻胶曝光过程动态形貌原位高速测量装置及方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN117590702B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-01-07发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202311493514.0，技术领域涉及：G03F7/20；该发明授权一种光刻胶曝光过程动态形貌原位高速测量装置及方法是由刘世元;李磊;刘佳敏;江浩设计研发完成，并于2023-11-09向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种光刻胶曝光过程动态形貌原位高速测量装置及方法在说明书摘要公布了：本发明属于光学测量技术领域，公开了一种光刻胶曝光过程动态形貌原位高速测量装置及方法，其由测量光路模块和曝光光路模块组成，在测量光路中，测量光源发出的探测光依序经同步电子快门、反射镜、起偏器、光弹相位调制器调制后照射到样本表面并反射，反射光束被两分束器分成光强大致相同的三束光，分别遭受不同规格的波片和偏振分束器的解调，进而由6个光电倍增管感知瞬时光强；根据测量光强并结合测量系统光学模型，提取出样本的测量穆勒矩阵，进而根据样本光学模型求得样品三维形貌，以实现光刻胶曝光过程的动态监测。本发明具有高时间分辨率、原位动态测量、测量信息丰富的优点。

本发明授权一种光刻胶曝光过程动态形貌原位高速测量装置及方法在权利要求书中公布了：1.一种光刻胶曝光过程动态形貌原位高速测量装置，用于测量光刻胶样本，其特征在于，包括测量光路单元和曝光光路单元；所述测量光路单元包括入射光路、反射光路和数据采集仪12；所述入射光路发出的入射光经由所述光刻胶样本反射形成的反射光进入所述反射光路；所述入射光路包括依次布置的测量光源1、起偏器5和两个光弹相位调制器6；所述反射光路包括两个非偏振分束器3、三个偏振分束器4和六个光电倍增管9，所述反射光经所述两个非偏振分束器3分为三个分支光束，一一对应进入所述三个偏振分束器4后一分为二获得总共六路出射光；六路出射光分别经六个光电倍增管9转换为电信号后输入数据采集仪12；在第一分支光束中，待测偏振光被第一偏振分束器检偏并分束成振动方向互相垂直的两束线偏振光；在第二分支光束中，在被第二偏振分束器检偏、分束之前，通过12波片对待测偏振光实施相位调制；第三分支光束中，待测偏振光先被14波片调制，再被第三偏振分束器检偏、分束；所述曝光光路单元包括依次布置的曝光光源14、透镜组13、掩模11、非偏振分束器3和物镜7；测量光源1和起偏器5之间、透镜组13和掩模11之间各设有一个同步电子快门2，两个同步电子快门2同步控制；测量时，物镜7的出射光在光刻胶样本表面形成的曝光光斑范围完全覆盖入射光路在光刻胶样本表面形成的光斑。

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