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用于对掩模层成像的方法及相关成像系统专利

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申请/专利权人:阿合斯印前有限公司

申请日:2023-04-04

公开(公告)日:2025-01-17

公开(公告)号:CN119325576A

专利技术分类:.曝光及其设备(复制用照相印制设备入G03B27/00)[2006.01]

专利摘要:一种用于对掩模层成像的方法,包括以下步骤:读取具有至少C1+C2个像素的序列的成像数据;在第一时刻,根据所述成像数据,使用一组C1个第一成像光束基本同时地对所述序列的第一组C1个像素成像;在第二时刻,根据所述成像数据,使用一组C2个第二成像光束基本同时地对所述序列的第二组C2个像素成像;重复读取成像数据,对至少C1+C2个像素的下一序列,在第一时刻使用一组C1个第一成像光束进行成像以及在第二时刻使用一组C2个第二成像光束进行成像。

专利权项:1.一种用于对掩模层成像的方法,包括以下步骤:提供掩模层;提供彼此相邻布置的多个至少C1+C2个成像光束,所述多个成像光束包括第一组C1个成像光束L1和第二组C2个成像光束L2;读取具有至少C1+C2个像素的序列的成像数据,C1和C2为大于或等于1的整数;在第一时刻,根据读取的成像数据,使用一组C1个第一成像光束L1基本同时地对所述序列的第一组C1个像素成像;在第二时刻,根据读取的成像数据,使用一组C2个第二成像光束L2基本同时地对所述序列的第二组C2个像素成像;可选地,在一个或多个后续时刻,根据读取的成像数据,使用后续组成像光束L3基本同时地对后续组像素成像,后续组的所述像素不同于第一组的像素和第二组的像素;对于至少C1+C2个像素的下一序列,重复读取成像数据,在第一时刻使用一组C1个第一成像光束L1进行成像,在第二时刻使用一组C2个第二成像光束L2进行成像,并且可选地在一个或多个后续时刻使用后续组成像光束L3进行成像。

百度查询: 阿合斯印前有限公司 用于对掩模层成像的方法及相关成像系统

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