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申请/专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日：2023-03-09
公开（公告）日：2023-09-19
公开（公告）号：CN116764541A
专利技术分类：
专利摘要：本发明提供一种热处理装置和热处理方法，能够改善含有水分的减压氛围下的氧化处理的均匀性。基于本公开的一个方式的热处理装置具有：处理容器，其能够减压；水分产生装置，其使氢与氧进行催化反应来生成水分；气体导入部，其向所述水分产生装置导入氢和氧；以及喷嘴，其向所述处理容器内供给由所述水分产生装置生成的所述水分，其中，由所述气体导入部导入的氢相对于氧的流量比大于2，所述处理容器具有使从所述喷嘴供给的所述水分滞留的滞留部。
专利权项：1.一种热处理装置，具有：处理容器，其能够减压；水分产生装置，其使氢与氧进行催化反应来生成水分；气体导入部，其向所述水分产生装置导入氢和氧；以及喷嘴，其向所述处理容器内供给由所述水分产生装置生成的所述水分，其中，由所述气体导入部导入的氢相对于氧的流量比大于2，所述处理容器具有使从所述喷嘴供给的所述水分滞留的滞留空间。
百度查询： 东京毅力科创株式会社 热处理装置和热处理方法
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