恭喜深圳市新凯来工业机器有限公司尹诗流获国家专利权
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龙图腾网恭喜深圳市新凯来工业机器有限公司申请的专利工艺腔室和半导体设备获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119920674B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-06-27发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202510386333.0，技术领域涉及：H01J37/32；该发明授权工艺腔室和半导体设备是由尹诗流;李惠芸;师羊羊设计研发完成，并于2025-03-31向国家知识产权局提交的专利申请。
本工艺腔室和半导体设备在说明书摘要公布了：本申请实施例提供了一种工艺腔室和半导体设备，半导体设备包括工艺腔室，工艺腔室包括腔体、气泵和控压阀；腔体的底部中心设有第一通孔；气泵设置于腔体外，与第一通孔连通；控压阀包括阀板和至少一个驱动组件，阀板设置于腔体内且正对第一通孔，至少一个驱动组件穿过腔体与阀板连接，在至少一个驱动组件的驱动下，阀板能够沿腔体的垂直方向移动，以远离或靠近第一通孔。本申请实施例通过在工艺腔室中设置气泵和控压阀等流场调节组件，使得工艺腔室具有良好的流场对称性，改善了半导体设备对晶圆的刻蚀非均匀性。
本发明授权工艺腔室和半导体设备在权利要求书中公布了：1.一种工艺腔室，其特征在于，包括： 腔体，所述腔体的底部中心设有第一通孔； 气泵，所述气泵设置于所述腔体外，并与所述第一通孔连通； 控压阀，包括阀板和至少一个驱动组件，所述阀板设置于所述腔体内且正对所述第一通孔，所述至少一个驱动组件穿过所述腔体与所述阀板连接；所述阀板能够在所述至少一个驱动组件的驱动下，沿所述腔体的垂直方向移动，以远离或靠近所述第一通孔； 下电极，所述下电极位于所述腔体内； 馈电装置，所述馈电装置设于所述腔体外，所述馈电装置穿过所述腔体的侧壁并与所述下电极连接，所述馈电装置用于向所述下电极馈电； 回流盘，所述回流盘位于所述腔体内并位于所述下电极的下方，所述回流盘用于为射频信号提供回流路径，所述回流盘上设有至少一个第三通孔，所述至少一个第三通孔位于所述回流盘靠近所述馈电装置的半圆盘区域内。
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