恭喜京东方科技集团股份有限公司;绵阳京东方光电科技有限公司桑金龙获国家专利权
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龙图腾网恭喜京东方科技集团股份有限公司;绵阳京东方光电科技有限公司申请的专利一种掩膜板、显示基板、显示装置获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN115679254B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-06-24发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202211093931.1,技术领域涉及:C23C14/04;该发明授权一种掩膜板、显示基板、显示装置是由桑金龙;齐超;罗宁;王博;潘文虎;刘宇熙设计研发完成,并于2022-09-08向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种掩膜板、显示基板、显示装置在说明书摘要公布了:本公开实施例提供一种掩膜板、显示基板、显示装置。掩膜板包括掩膜板主体,掩膜板主体上设有多个掩膜开口,至少一个掩膜开口中设有遮挡结构和连接结构;遮挡结构,与显示基板上的挖孔区对应设置,用于在蒸镀工序中遮挡显示基板上挖孔区的周边位置;连接结构,与掩膜板主体和对应的遮挡结构连接,用于将对应的遮挡结构固定于掩膜板主体。本公开实施例提供的掩膜板、显示基板、显示装置,在很大程度上可以避免显示面板出现GDSH不良。
本发明授权一种掩膜板、显示基板、显示装置在权利要求书中公布了:1.一种显示基板,通过掩膜板制备,其特征在于,在垂直于显示基板的平面上,所述显示基板包括基底,以及依次设置在所述基底上的驱动电路层、发光结构层,所述发光结构层包括有机发光层和像素定义层,所述像素定义层位于所述驱动电路层与所述有机发光层之间;在平行于所述显示基板的平面上,所述显示基板包括显示区、过渡区和挖孔区,所述过渡区位于所述挖孔区和所述显示区之间,所述过渡区在所述基底上的正投影与所述有机发光层在所述基底上的正投影不存在重叠区域;所述显示基板还包括支撑结构,所述支撑结构设置于所述像素定义层远离所述基底的一侧,所述支撑结构包括与所述过渡区对应的多个支撑柱;在所述挖孔区周边未设置阻隔坝和隔离柱,能够减小所述挖孔区的边框; 所述掩膜板包括掩膜板主体,所述掩膜板主体上设有多个掩膜开口,至少一个掩膜开口中设有遮挡结构和连接结构;所述遮挡结构,与显示基板上的挖孔区对应设置,用于在蒸镀工序中遮挡显示基板上挖孔区的周边位置,位于所述过渡区的多个支撑柱设置为支撑所述遮挡结构;所述连接结构,与所述掩膜板主体和对应的遮挡结构连接,用于将对应的遮挡结构固定于所述掩膜板主体; 所述遮挡结构的中部区域为镂空结构,所述遮挡结构包括内边界和外边界,所述外边界所围成的面积大于第一边界围成的面积,所述第一边界为所述显示基板上挖孔区切割线所形成的闭环边界;所述内边界所围成的面积小于或等于第一边界所围成的面积,或者,所述内边界所围成的面积大于第一边界所围成的面积且小于所述外边界所围成的面积; 所述内边界与所述外边界之间的距离大于或等于50微米,使得显示基板上挖孔区与显示区之间形成大于或等于50微米未沉积有机发光材料的过渡区;所述过渡区未设置有机发光材料,能够阻断水汽沿有机发光层渗入挖孔区切割线位置的通路。
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