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龙图腾网恭喜杭州谱育科技发展有限公司申请的专利一种集成基质涂覆功能的MALDI-TOF质谱仪及其使用方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116053110B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-06-20发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202211739127.6，技术领域涉及：H01J49/04；该发明授权一种集成基质涂覆功能的MALDI-TOF质谱仪及其使用方法是由张传洲;吴中豪;赵鹏;杨继伟;俞晓峰设计研发完成，并于2022-12-31向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种集成基质涂覆功能的MALDI-TOF质谱仪及其使用方法在说明书摘要公布了：本发明涉及质谱分析技术领域，具体涉及一种集成基质涂覆功能的MALDI‑TOF质谱仪及其使用方法，所述的一种集成基质涂覆功能的MALDI‑TOF质谱仪包括：样品进出区域；离子飞行检测区域，用于对样品进行检测；基质喷涂区域，位于离子飞行检测区域、样品进出区域之间，用于对样品进行基质喷涂；光学系统，用于为离子飞行检测组件提供检测激光；真空系统，用于为离子飞行检测区域、基质喷涂室提供真空环境；数据采集成像系统，与离子飞行检测组件电性连接，用于对质谱数据进行处理并成像。本发明将基质涂覆、真空干燥和质谱检测成像三个步骤集成于一体，可以有效减少样品前期处理时间，降低了样品在不同装置间转移的污染概率，检测更精准，且设备使用方法简单。

本发明授权一种集成基质涂覆功能的MALDI-TOF质谱仪及其使用方法在权利要求书中公布了：1.一种集成基质涂覆功能的MALDI-TOF质谱仪，包括工作室、光学系统、真空系统、数据采集成像系统，工作室内包括离子飞行检测区域、样品进出区域，工作室内底部设有样品移动载台，其特征在于，还包括设于离子飞行检测区域与样品进出区域之间的基质喷涂区域，离子飞行检测区域内设有离子飞行检测组件，工作室位于样品进出区域处设有样品进出口，所述基质喷涂区域内设有基质喷涂室，基质喷涂室靠近样品进出区域一侧设有第一喷涂室进出口，基质喷涂室靠近离子飞行检测区域一侧设有第二喷涂室进出口，基质喷涂室与真空系统连接，数据采集成像系统与离子飞行检测组件电性连接，光学系统用于为离子飞行检测组件提供检测激光；所述基质喷涂室内设有第一真空度检测模块，第一真空度检测模块与真空系统连接；所述离子飞行检测区域设有第二真空度检测模块，所述第二真空度检测模块与真空系统连接。

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