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龙图腾网恭喜深圳市晟大光电有限公司申请的专利晶圆检测光源亮度的自适应调控方法及装置获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119804330B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-06-13发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202510301440.9，技术领域涉及：G01N21/01；该发明授权晶圆检测光源亮度的自适应调控方法及装置是由王敏军;李国鑫设计研发完成，并于2025-03-14向国家知识产权局提交的专利申请。

本晶圆检测光源亮度的自适应调控方法及装置在说明书摘要公布了：本发明涉及光源控制的技术领域，公开了一种晶圆检测光源亮度的自适应调控方法及装置，本发明通过预设的环形光源对晶圆进行初步照射，并采集初始图像数据，根据初始检测数据进行数字模拟，生成晶圆检测反馈模型，依据检测反馈模型分析光源照射需求，生成梯度执行方案，根据梯度方案依次配置光源参数，对晶圆进行多轮检测并收集数据，将检测数据反馈至模型，进行参数调节，调整后的模型进行拓展光源检测需求分析，生成拓展检测方案，并进行最终检测，该方法通过自动化调节光源亮度和配置，实现了高效且精确的晶圆表面缺陷检测，提升了检测精度与效率，适应了不同晶圆的检测需求，解决了现有技术中用于检测的光源不够全面，导致缺陷未检出的问题。

本发明授权晶圆检测光源亮度的自适应调控方法及装置在权利要求书中公布了：1.一种晶圆检测光源亮度的自适应调控方法，其特征在于，包括： 通过预先设置的环形光源对待检测晶圆进行环绕状态的初始光源照射，并对所述待检测晶圆在环绕状态的初始光源照射下的图像数据进行采集，以得到所述待检测晶圆的初始检测数据； 根据所述待检测晶圆的初始检测数据对所述待检测晶圆进行数字模拟，以得到晶圆检测反馈模型，并基于所述晶圆检测反馈模型对所述环形光源进行后续光源照射需求的梯度方案分析，以得到光源照射梯度执行方案； 根据所述光源照射梯度执行方案依次对所述环形光源进行光源参数配置，以使得所述环形光源依次对所述待检测晶圆施加检测光源照射，从而获取所述待检测晶圆在各轮检测光源照射下的梯度检测数据； 将所述待检测晶圆在各轮检测光源下的梯度检测数据代入至所述晶圆检测反馈模型，以对所述晶圆检测反馈模型进行模型参数调节； 根据经过模型参数调节后的所述晶圆检测反馈模型进行拓展光源检测需求分析，以得到所述待检测晶圆的拓展光源检测方案，并根据所述拓展光源检测方案对所述待检测晶圆进行检测，得到拓展检测数据并代入至所述晶圆检测反馈模型； 根据所述待检测晶圆的初始检测数据对所述待检测晶圆进行数字模拟，以得到所述晶圆检测反馈模型，并基于所述晶圆检测反馈模型对所述环形光源进行后续光源照射需求的梯度方案分析，以得到光源照射梯度执行方案的步骤包括： 对所述待检测晶圆的初始检测数据进行晶圆基础信息与晶圆检测信息的解析，以得到所述待检测晶圆的晶圆基础信息与晶圆检测信息；其中，所述晶圆基础信息用于描述所述待检测晶圆的晶圆规格与晶圆形状，所述晶圆检测信息用于描述所述待检测晶圆的晶圆表面所展现的检测状况； 根据所述待检测晶圆的晶圆基础信息对所述待检测晶圆进行数字模拟，以得到用于对所述待检测晶圆进行数字孪生模拟反馈的晶圆检测反馈模型；其中，所述晶圆检测反馈模型包括晶圆基底模拟部分与晶圆表面模拟部分； 将所述晶圆检测信息代入至所述晶圆检测反馈模型，以根据所述晶圆检测信息对所述晶圆检测反馈模型的晶圆表面模拟部分进行模型参数调节，从而通过模型参数调节后的晶圆表面模拟部分对所述待检测晶圆的晶圆表面检测状况进行数字模拟反馈； 对所述晶圆检测反馈模型的晶圆表面模拟部分上的各处具体位置分别进行晶圆质量的分析，以得到所述晶圆检测反馈模型的检测质量特征分布； 基于所述初始光源照射对所述晶圆检测反馈模型的晶圆表面模拟部分上的各处具体位置分别进行光源检测效果的分析，以得到所述晶圆检测反馈模型的检测质量特征分布所对应的光源检测缺陷类型适应范围； 根据预设的待检测缺陷类型标准对所述光源检测缺陷类型适应范围进行差异分析，以得到后续待执行的若干种光源检测缺陷类型适应范围，并根据后续待执行的若干种光源检测缺陷类型适应范围对所述环形光源进行光源执行照射需求的工作参数解析与执行梯度排列，以得到所述环形光源对应后续待执行的若干种光源检测缺陷类型适应范围的光源照射梯度执行方案； 基于所述初始光源照射对所述晶圆检测反馈模型的晶圆表面模拟部分上的各处具体位置分别进行光源检测效果的分析，以得到所述晶圆检测反馈模型的检测质量特征分布所对应的光源检测缺陷类型适应范围的步骤包括： 对所述晶圆检测反馈模型的晶圆表面模拟部分进行定位网格坐标体系的划分，以得到用于将所述晶圆表面模拟部分划分为若干个具有定位坐标的定位网格的定位网格坐标体系； 基于所述定位网格坐标体系对所述初始光源照射进行网格拆解处理，以得到所述检测质量特征分布所对应的光源照射参数分布； 根据所述光源照射参数分布对预设的若干种晶圆缺陷检测类型进行检测效果的适应性分析，以得到所述光源照射参数分布对应各种晶圆缺陷检测类型的检测效果适应度； 对所述光源照射参数分布对应各种晶圆缺陷检测类型的检测效果适应度进行组合分析，以得到所述晶圆检测反馈模型的检测质量特征分布所对应的光源检测缺陷类型适应范围。

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