恭喜华芯程(杭州)科技有限公司张宁宁获国家专利权
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龙图腾网恭喜华芯程(杭州)科技有限公司申请的专利掩膜成像方法、装置、存储介质及电子设备获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN119861537B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-06-03发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202510326271.4,技术领域涉及:G03F7/20;该发明授权掩膜成像方法、装置、存储介质及电子设备是由张宁宁;林云设计研发完成,并于2025-03-19向国家知识产权局提交的专利申请。
本掩膜成像方法、装置、存储介质及电子设备在说明书摘要公布了:本申请公开了一种掩膜成像方法、装置、存储介质及电子设备,其中,该掩膜成像方法包括获取掩膜的几何形状和特征信息,掩膜包括至少两层介质;基于特征信息,使用传输矩阵法计算每层介质的传输矩阵,以得到掩膜的总传输矩阵;基于总传输矩阵对初始入射场进行修正,得到目标入射场;根据目标入射场,计算掩膜每个点的衍射近场强度;根据衍射近场强度和几何形状,通过预设成像方法生成掩膜的空间像。本方案可以提高掩膜成像的精度。
本发明授权掩膜成像方法、装置、存储介质及电子设备在权利要求书中公布了:1.一种掩膜成像方法,其特征在于,包括:获取掩膜的几何形状和特征信息,所述掩膜包括至少两层介质;基于所述特征信息,使用传输矩阵法计算每层所述介质的传输矩阵,以得到所述掩膜的总传输矩阵;基于所述总传输矩阵对初始入射场进行修正,得到目标入射场;根据所述目标入射场,计算所述掩膜每个点的衍射近场强度;根据所述衍射近场强度和所述几何形状,通过预设成像方法生成所述掩膜的空间像。
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