Document
拖动滑块完成拼图
个人中心

预订订单
服务订单
发布专利 发布成果 人才入驻 发布商标 发布需求

在线咨询

联系我们

龙图腾公众号
首页 专利交易 科技果 科技人才 科技服务 国际服务 商标交易 会员权益 IP管家助手 需求市场 关于龙图腾
 /  免费注册
到顶部 到底部
清空 搜索
当前位置 : 首页 > 专利喜报 > 恭喜ASML荷兰有限公司N·加瓦赫里获国家专利权

恭喜ASML荷兰有限公司N·加瓦赫里获国家专利权

买专利卖专利找龙图腾,真高效! 查专利查商标用IPTOP,全免费!专利年费监控用IP管家,真方便!

龙图腾网恭喜ASML荷兰有限公司申请的专利量测方法和相关的计算机产品获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN114080536B

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-05-30发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202080049670.6,技术领域涉及:G01B11/00;该发明授权量测方法和相关的计算机产品是由N·加瓦赫里;M·范德沙尔;张铁明;H·D·波斯;P·沃纳尔;S·巴拉米;M·哈吉阿玛迪;S·塔拉布林;M·塞姆克夫设计研发完成,并于2020-07-07向国家知识产权局提交的专利申请。

量测方法和相关的计算机产品在说明书摘要公布了:公开了一种方法,该方法包括:测量从量测目标反射的辐射,以及将经测量的辐射以分量进行分解,例如傅里叶分量或空间分量。此外,公开一种方案选择方法,其提供一种用于基于基于单分量的经测量的辐射的重新计算的相关性来选择量测设备的参数的算法。

本发明授权量测方法和相关的计算机产品在权利要求书中公布了:1.一种测量光刻工艺的参数的方法,包括:测量从量测设备中的被测的量测目标反射的第一辐射,所述量测目标包括上部结构和下部结构,其中所述下部结构具有倾斜度并且沿所述量测目标的深度方向与所述上部结构相距预定距离,所述上部结构和所述下部结构之间设置有具有不同折射率的交替层;改变所述量测设备的参数、照射模式或成像模式;在所述改变之后,测量从所述量测目标反射的第二辐射;以及基于测量的被反射的所述第一辐射和所述第二辐射,将经测量的所述辐射以分量进行分解。

如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术,可联系本专利的申请人或专利权人ASML荷兰有限公司,其通讯地址为:荷兰维德霍温;或者联系龙图腾网官方客服,联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。

免责声明
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息,力求客观、公正,但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解,仅供参考使用,不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。