恭喜乳源瑶族自治县东阳光化成箔有限公司;韶关东阳光科技研发有限公司胡三元获国家专利权
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龙图腾网恭喜乳源瑶族自治县东阳光化成箔有限公司;韶关东阳光科技研发有限公司申请的专利一种用于低压化成箔的电极结构材料及其应用获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114188160B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-05-30发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202111408711.9，技术领域涉及：H01G9/042；该发明授权一种用于低压化成箔的电极结构材料及其应用是由胡三元;罗向军;陈锦雄;汪启桥;江国东;闫小宇;吕根品;李洪伟设计研发完成，并于2021-11-24向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种用于低压化成箔的电极结构材料及其应用在说明书摘要公布了：本发明公开了一种用于低压化成箔的电极结构材料及其应用。本发明的电极结构材料包括未腐蚀铝芯层和腐蚀区间，所述未腐蚀铝芯层具有连续贯穿结构并垂直于电极结构材料表面均匀分布，未腐蚀铝芯层的平均厚度为0.1～100μm，未腐蚀铝芯层之间距离为20～1000μm。本发明的电极结构材料具有优异的折弯性能的同时还具有较高的比容，比容为84μFcm2时其折弯强度达到93回。本发明的电极结构材料应用于铝电解电容器时，未腐蚀铝芯层显著改善了电极结构材料与正负极引线的有效接触面积，进而减小接触电阻，与传统电极结构材料相比，将接触电阻由0.89mΩ降低至0.21mΩ，减小了电极结构材料发热和击穿的风险。
本发明授权一种用于低压化成箔的电极结构材料及其应用在权利要求书中公布了：1.一种用于低压化成箔的电极结构材料，其特征在于，该电极结构材料包括：未腐蚀铝芯层和腐蚀区间；所述未腐蚀铝芯层具有连续贯穿结构并垂直于电极结构材料表面均匀分布，未腐蚀铝芯层的平均厚度为0.1~100μm；所述未腐蚀铝芯层之间距离为20~1000μm；所述未腐蚀铝芯层与腐蚀区间体积占比为1：（5~50）；所述腐蚀区间由海绵状的腐蚀孔组成，腐蚀孔的平均孔径为115~125nm。
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