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龙图腾网恭喜上海航天裕达科技有限公司申请的专利介质阻挡放电内电离装置获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115188652B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-05-30发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202210640433.8，技术领域涉及：H01J49/10；该发明授权介质阻挡放电内电离装置是由于佳佳;王玉涵;李飞;罗勇;金永星;董栋;任维松;陈延龙设计研发完成，并于2022-06-08向国家知识产权局提交的专利申请。

本介质阻挡放电内电离装置在说明书摘要公布了：本发明提供了质谱分析仪器技术领域一种介质阻挡放电内电离装置，包括装置本体与质谱室，装置本体包括毛细管、介质管以及电极，质谱室内部固定设置有内壁。装置本体连接设置在质谱室上，毛细管连接设置在介质管上，电极固定设置在介质管上。本发明通过采用装置本体连接设置在质谱室上，毛细管连接设置在介质管上，电极固定设置在介质管上，以及质谱室内部固定设置有内壁的结构设计，利用介质阻挡放电原理在质谱仪真空腔室内壁形成离子化区域，有效避免离子传输导致的仪器性能下降；离子化区域较大，电离化更充分，同时不会形成较硬的离子源；也可以利用质谱室一级腔气压与大气压之间的压差进行样品传输，无需外加载气。

本发明授权介质阻挡放电内电离装置在权利要求书中公布了：1.一种介质阻挡放电内电离装置，其特征在于，包括装置本体与质谱室（6），所述装置本体包括毛细管（1）、介质管（2）以及电极（4），所述质谱室（6）内部固定设置有内壁（3）；所述装置本体连接设置在所述质谱室（6）上，所述毛细管（1）连接设置在所述介质管（2）上，所述电极（4）固定设置在所述介质管（2）上；所述毛细管（1）连接设置在所述介质管（2）的上游位置，且所述毛细管（1）与所述介质管（2）密封设置；所述电极（4）、介质管（2）和内壁（3）组成介质阻挡放电离子源，且在电极（4）与内壁（3）之间形成电离区域，所述电离区域随着等离子聚集和吹扫作用发生流动现象，所述电离区域向质谱室（6）内转移，最后稳定在内壁（3）处；所述毛细管（1）包括金属毛细管、石英毛细管、聚合物毛细管，且所述毛细管（1）包括直毛细管和弯曲毛细管；所述介质管（2）包括石英介质管、玻璃介质管、陶瓷介质管以及聚合物介质管；所述毛细管（1）的外径小于或等于所述介质管（2）的内径；所述毛细管（1）具体尺寸包括0.25mmi.d×100mm，所述介质管（2）具体尺寸包括3mmi.d×50mm；所述质谱室（6）包括第一级真空腔体、第二级真空腔体以及电离源，所述介质管（2）的一端连接设置在所述毛细管（1）的下游位置，所述介质管（2）的另一端与所述第一级真空腔体连接设置。

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