恭喜上海华力微电子有限公司柯顺魁获国家专利权
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龙图腾网恭喜上海华力微电子有限公司申请的专利版图图形边缘分割方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115629518B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-05-30发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202211390612.7，技术领域涉及：G03F1/36；该发明授权版图图形边缘分割方法是由柯顺魁设计研发完成，并于2022-11-08向国家知识产权局提交的专利申请。
本版图图形边缘分割方法在说明书摘要公布了：本发明公开了一种版图图形边缘分割方法，边缘分割中包括进行纹波抑制的边缘切分，纹波抑制的边缘切分包括如下步骤：步骤一、采用OPC模型的光刻模型提取版图的图形的各边的空间光强曲线。步骤二、计算所述空间光强曲线上的极值点。步骤三、在版图的图形的对应的边上形成以各极值点为中心的切分片段。本发明能基于OPC模型来改进版图图形的边缘分割，不需要工程师花费大量的时间来调试OPC配方，从而能获得稳定的OPC配方的调试时间，且具有较好的OPC修正精度。
本发明授权版图图形边缘分割方法在权利要求书中公布了：1.一种版图图形边缘分割方法，其特征在于，边缘分割中包括进行纹波抑制的边缘切分，所述纹波抑制的边缘切分包括如下步骤：步骤一、采用OPC模型的光刻模型提取版图的图形的各边的空间光强曲线；步骤二、计算所述空间光强曲线上的极值点；步骤三、在所述版图的所述图形的对应的所述边上形成以各所述极值点为中心的切分片段。
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1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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