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龙图腾网恭喜思恩半导体科技(苏州)有限公司申请的专利一种基于兆声波的晶圆清洁装置及清洁方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119694954B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-05-30发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202510203930.5，技术领域涉及：H01L21/67；该发明授权一种基于兆声波的晶圆清洁装置及清洁方法是由王文和;蔡永礼;叶曲波设计研发完成，并于2025-02-24向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种基于兆声波的晶圆清洁装置及清洁方法在说明书摘要公布了：本发明公开了一种基于兆声波的晶圆清洁装置及清洁方法，涉及晶圆预加工技术领域，包括清洗箱，其顶部设置有运输轨道，清洗箱的内部安装有兆声波发生器，在运输轨道的内侧滑动设置有晶圆运输架，晶圆运输架的底部同时夹持若干可活动的晶圆本体，运输轨道上有安装有检测摄像头，检测摄像头用于采集晶圆本体的光刻面斜角照片，基于光刻面斜角照片识别出晶圆本体的潮湿数据；由于对称风干机构会对晶圆本体的表面施加对称的风力，所以晶圆本体在受到较大风力作用时，晶圆本体两侧的作用力会相互抵消，保证晶圆本体不会发生形变，保证了晶圆本体的安全性，在提高晶圆本体风干效率的同时，晶圆本体不易发生碎裂。

本发明授权一种基于兆声波的晶圆清洁装置及清洁方法在权利要求书中公布了：1.一种基于兆声波的晶圆清洁装置，其特征在于，包括：清洗箱，其顶部设置有运输轨道，清洗箱的内部安装有兆声波发生器；晶圆运输架，其滑动设置在运输轨道的内侧，晶圆运输架的底部同时夹持若干可活动的晶圆本体；检测摄像头，其安装在运输轨道上，检测摄像头用于采集晶圆本体的光刻面斜角照片，基于光刻面斜角照片识别出晶圆本体的潮湿数据；对称风干机构，其设置在清洗箱的一侧，晶圆运输架将夹持的若干晶圆本体交错限定在对称风干机构的顶面，对称风干机构对晶圆本体的表面施加对称的吹风的同时，使晶圆本体沿竖直平面转动，基于潮湿数据确定对称风干机构对晶圆本体的表面施加对称吹风的时间；所述晶圆运输架包括移动架，移动架的底面安装有升降台，升降台的底面安装有若干夹持机构；所述移动架包括矩形框架，矩形框架的两端靠近运输轨道的位置固定连接有与运输轨道相匹配的轨道滑块，矩形框架的顶面四角位置固定连接有竖直设置的液压缸，液压缸的底端连接有伸缩杆；所述升降台包括矩形台，矩形台的底面安装有若干组安装座，每组安装座直接通过轴承安装有螺纹杆，螺纹杆的侧面嵌套有移动座，伸缩杆远离液压缸的一端与矩形台的顶面固定连接；所述夹持机构包括弧形架，弧形架的内部开设有液压腔，弧形架的两端插接有活动的弧形臂，弧形臂远离弧形架的一端固定连接有活动滑轮座，弧形架的底面安装有至少一个固定滑轮。

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