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龙图腾网恭喜泉州信息工程学院申请的专利制备微透镜球面阵列的方法及系统获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119717089B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-05-30发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202510230440.4，技术领域涉及：G02B3/00；该发明授权制备微透镜球面阵列的方法及系统是由伊福廷;马天军;张耀举;方刚;赵国华;陈荣坤;颜锦耀;柯清迈设计研发完成，并于2025-02-28向国家知识产权局提交的专利申请。

本制备微透镜球面阵列的方法及系统在说明书摘要公布了：本申请提供了一种制备微透镜球面阵列的方法及系统，方法包括：在硅片的正面旋涂第一光刻胶；对第一光刻胶进行曝光显影得到多个局部胶柱阵列，每一局部胶柱阵列包括多个局部胶柱；根据多个局部胶柱阵列，对正面进行刻蚀得到多个局部硅柱阵列，每一局部硅柱阵列包括多个局部硅柱；在正面涂敷第二光刻胶；利用光刻工艺和套刻工艺将第二光刻胶覆盖在多个局部硅柱阵列靠近正面的一面得到微透镜胶柱阵列，微透镜胶柱阵列包括多个微透镜胶柱，每一微透镜胶柱覆盖于相应局部硅柱阵列的多个局部硅柱；对微透镜胶柱阵列进行加热，以使多个微透镜胶柱软化成型得到微透镜球面阵列。本申请通过控制形成的局部硅柱阵列，可控制微透镜球面阵列接触角的大小。

本发明授权制备微透镜球面阵列的方法及系统在权利要求书中公布了：1.一种制备微透镜球面阵列的方法，其特征在于，所述制备微透镜球面阵列的方法包括：在硅片的正面旋涂第一光刻胶；对所述第一光刻胶进行曝光显影得到多个局部胶柱阵列，每一局部胶柱阵列包括多个局部胶柱；根据所述多个局部胶柱阵列，对所述正面进行刻蚀得到多个局部硅柱阵列，每一局部硅柱阵列包括多个局部硅柱，所述每一局部硅柱阵列对应一个局部胶柱阵列，且所述多个局部硅柱与相应局部胶柱阵列的多个局部胶柱一一对应；在所述正面涂敷第二光刻胶；利用光刻工艺和套刻工艺将所述第二光刻胶覆盖在所述多个局部硅柱阵列靠近所述正面的一面得到微透镜胶柱阵列，所述微透镜胶柱阵列包括多个微透镜胶柱，每一微透镜胶柱覆盖于相应局部硅柱阵列的多个局部硅柱；对所述微透镜胶柱阵列进行加热，以使所述多个微透镜胶柱软化成型得到微透镜球面阵列，所述微透镜球面阵列包括多个微透镜球面，每一微透镜球面对应一个局部硅柱阵列，且由相应局部硅柱阵列的多个局部硅柱支撑；其中，所述第一光刻胶和所述第二光刻胶为不同的正性光刻胶；所述微透镜胶柱的高度大于所述局部硅柱的高度。

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