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龙图腾网恭喜博力思(天津)电子科技有限公司申请的专利一种电子抛光用高纯度球形硅溶胶的制备方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119706854B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-05-30发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202510228504.7，技术领域涉及：C01B33/145；该发明授权一种电子抛光用高纯度球形硅溶胶的制备方法是由王晗笑;刘林;谢顺帆;曹靖丽;刘圆设计研发完成，并于2025-02-28向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种电子抛光用高纯度球形硅溶胶的制备方法在说明书摘要公布了：本发明提供了一种电子抛光用高纯度球形硅溶胶的制备方法，涉及无机化合物材料领域，包括：将四甲氧基硅氧烷和分散液从第一级碳化硅微通道反应器的两个进料口同时打入，进行水解聚合反应，得到A溶液；将A溶液和酸性水解液从第二级碳化硅微通道反应器的两个进料口同时打入，进行颗粒均匀化反应，得到B溶液；将B溶液和稳定剂从第三级碳化硅微通道反应器的两个进料口同时打入，进行颗粒稳定性反应，得到高纯度球形硅溶胶；对高纯度球形硅溶胶进行溶剂置换，进行溶剂置换后通过膜过滤器进行浓缩，浓缩至二氧化硅含量大于20%，得到总金属离子含量小于1ppm的超高纯球形硅溶胶。本发明制备的高纯度球形硅溶胶颗粒大小均匀，有助于提升抛光效果。

本发明授权一种电子抛光用高纯度球形硅溶胶的制备方法在权利要求书中公布了：1.一种电子抛光用高纯度球形硅溶胶的制备方法，其特征在于，包括：将四甲氧基硅氧烷和分散液从第一级碳化硅微通道反应器的两个进料口同时打入，四甲氧基硅氧烷的打入速度为1.5～2.1mlmin，分散液的打入速度为3.0～16.8mlmin，所述分散液包括复合醇、超纯水和弱碱；在5～15℃温度条件下进行水解聚合反应，把反应过程中的温度波动控制在1.2℃以内，从第一级碳化硅微通道反应器的出口得到A溶液；所述第一级碳化硅微通道反应器的出口连接第二级碳化硅微通道反应器，将所述A溶液和酸性水解液从第二级碳化硅微通道反应器的两个进料口同时打入，酸性水解液打入速度为9.0～95.0mlmin；所述酸性水解液包括四甲氧基硅氧烷、超纯水和酸，pH值为2～4；在温度50～85℃进行颗粒均匀化反应，从第二级碳化硅微通道反应器出口得到B溶液；所述第二级碳化硅微通道反应器的出口连接第三级碳化硅微通道反应器，将所述B溶液和稳定剂从第三级碳化硅微通道反应器的两个进料口同时打入，稳定剂打入速度为0.01～9.1mlmin；所述稳定剂包括超纯水、有机碱和降粘剂；在20～30℃温度条件下进行颗粒稳定性反应，从第三级碳化硅微通道反应器出口处得到高纯度球形硅溶胶，其中，B溶液和稳定剂的质量比为100：1～8；稳定剂中超纯水、有机碱和降粘剂的质量比为100：2～6：0.05～0.1，所述降粘剂包括聚乙二醇和或壬基酚。

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