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龙图腾网恭喜合肥晶合集成电路股份有限公司申请的专利光谱库的构建方法、光学关键尺寸的测量方法及装置获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119759878B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-05-30发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202510246213.0，技术领域涉及：G06F16/21；该发明授权光谱库的构建方法、光学关键尺寸的测量方法及装置是由杨杰;高志杰;李阳阳;黄爽设计研发完成，并于2025-03-04向国家知识产权局提交的专利申请。

本光谱库的构建方法、光学关键尺寸的测量方法及装置在说明书摘要公布了：本发明提供一种光谱库的构建方法、光学关键尺寸的测量方法及装置，涉及光学关键尺寸测量技术领域，其方法包括：分别获取周期可变结构至少三个周期的第一类光谱库数据；在所述至少三个周期的第一类光谱库数据的光谱存在线性差异的情况下，根据所述第一类光谱库数据确定所述周期可变结构其余周期分别一一对应的第二类光谱库数据；整合所述第一类光谱库数据和所述第二类光谱库数据构建得到光谱库。本发明通过对周期可变结构的至少三个周期对应的结构建模得到第一类光谱库数据拟合得到其余周期对应的结构的第二类光谱库数据，减少了构建OCD测量中光谱库构建过程所需的建模次数，从而减少了光谱库的构建时间，提高了光谱库的构建效率。

本发明授权光谱库的构建方法、光学关键尺寸的测量方法及装置在权利要求书中公布了：1.一种光谱库的构建方法，其特征在于，包括：分别获取周期可变结构至少三个周期的第一类光谱库数据，所述周期可变结构为半导体工艺流程中关键尺寸和或间距发生改变的结构；在所述至少三个周期的第一类光谱库数据的光谱存在线性差异的情况下，根据所述第一类光谱库数据确定所述周期可变结构其余周期分别一一对应的第二类光谱库数据；整合所述第一类光谱库数据和所述第二类光谱库数据构建得到光谱库；所述根据所述第一类光谱库数据确定所述取周期可变结构其余周期分别一一对应的第二类光谱库数据的步骤，具体包括：基于所述至少三个周期中每个周期的第一理论光谱构建所述周期可变结构的模型，基于所述周期可变结构的模型确定所述周期可变结构的其余周期分别一一对应的第二理论光谱，其中，所述第一理论光谱表征建模获取的实际光谱数据；分别解析每个所述第二理论光谱，得到每个所述第二理论光谱对应的第二理论周期值和第二理论结构参数；对所述第二理论周期值和所述第二理论结构参数进行纠偏，得到第二理论光谱对应的第二周期值和第二结构参数作为第二索引参数；为所述周期可变结构其余周期中每个周期的第二理论光谱和第二索引参数之间建立索引后确定为第二类光谱库数据。

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