恭喜华为技术有限公司秦健鹰获国家专利权
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龙图腾网恭喜华为技术有限公司申请的专利一种自旋逻辑器件和自旋逻辑电路获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114641867B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-05-27发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：201980101520.2，技术领域涉及：H10B61/00；该发明授权一种自旋逻辑器件和自旋逻辑电路是由秦健鹰设计研发完成，并于2019-11-27向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种自旋逻辑器件和自旋逻辑电路在说明书摘要公布了：一种自旋逻辑器件，涉及电路技术领域，该自旋逻辑器件包括依次层叠设置的第一铁磁层、第一势垒层、固定层、第二势垒层、以及第二铁磁层，其中第一铁磁层和第二铁磁层包括磁性材料；第一势垒层和第二势垒层包括金属氧化物材料；固定层的磁化方向为固定方向。该逻辑器件依赖于磁性隧道结而实现了电流密度低、运行速度高、功耗低。还涉及一种自旋逻辑电路、控制方法及处理装置。
本发明授权一种自旋逻辑器件和自旋逻辑电路在权利要求书中公布了：1.一种自旋逻辑器件，其特征在于，所述自旋逻辑器件包括依次层叠设置的第一铁磁层、第一势垒层、固定层、第二势垒层、第二铁磁层，以及第一电极，其中：所述第一铁磁层和所述第二铁磁层包括磁性材料；所述第一势垒层和所述第二势垒层包括金属氧化物材料；所述固定层的磁化方向为固定方向；所述固定层包括依次层叠设置的第一子层、第二子层、第三子层、第四子层和第五子层，其中：所述第一子层和所述第五子层包括磁性材料；所述第二子层和所述第四子层包括金属非磁材料或合金非磁材料；所述第三子层包括磁性多层膜[AxBy]n，其中，A为铁磁金属元素，B为重金属元素，x为A的厚度，y为B的厚度，n为[AxBy]的周期数；所述第三子层与所述第一子层形成反铁磁耦合，所述第三子层与所述第五子层形成反铁磁耦合；所述第一电极与所述固定层中的所述第三子层之间导电接触，而且所述第一电极与所述第一铁磁层、所述第一势垒层、所述第二势垒层以及所述第二铁磁层之间用绝缘层隔离。
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