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龙图腾网恭喜上海华力微电子有限公司申请的专利版图的局部图形密度分析方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114820498B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-05-23发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202210420874.7，技术领域涉及：G06T7/00；该发明授权版图的局部图形密度分析方法是由程玮;朱忠华;魏芳设计研发完成，并于2022-04-20向国家知识产权局提交的专利申请。

本版图的局部图形密度分析方法在说明书摘要公布了：本发明提供了一种版图的局部图形密度分析方法，包括：将版图中的若干个栅极根据沟道尺寸的不同分为m类；将每一类栅极划分为n个检查组，设置每个检查组的步进数和不平衡系数；根据步进数、不平衡系数和沟道尺寸设置每个检查组对应的测试区域的检查窗口的尺寸；根据步进数设置每个检查组对应的测试区域的图形密度的管控规格；对每个检查组对应的测试区域按照检查窗口的尺寸分为多个块，计算每个块的图形密度，根据管控规格判断每个块的图形密度是否合格。根据不同类栅极不同检查组得到不同的检查窗口和管控规格的方式，灵活地计算版图上不同地方的栅极的图形密度，从而得到更准确的局部图形密度。

本发明授权版图的局部图形密度分析方法在权利要求书中公布了：1.一种版图的局部图形密度分析方法，用于分析版图中若干个栅极周围的图形的图形密度，所述栅极均具有测试区域，其特征在于，包括：将版图中的若干个栅极根据沟道尺寸的不同分为m类，其中，m为正整数；将每一类所述栅极划分为n个检查组，并且设置每个所述检查组的步进数和不平衡系数，其中，n为正整数；根据所述步进数、不平衡系数和沟道尺寸设置每个所述检查组对应的测试区域的检查窗口的尺寸；根据所述步进数设置每个所述检查组对应的测试区域的图形密度的管控规格；以及对每个所述检查组对应的测试区域按照所述检查窗口的尺寸分为多个块，并计算每个所述块的图形密度，并根据所述管控规格判断每个所述块的图形密度是否合格；设置每个所述检查组的不平衡系数的方法包括：Cmi＝K2+1-K2nm-1*i-1；其中，Cmi为第m类栅极的第i个检查组的不平衡系数，K2为设置的不平衡参数，取值设置在0～1之间，nm为第m类栅极的检查组的个数，i的取值为1～nm。

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