恭喜京东方华灿光电(浙江)有限公司宋玉华获国家专利权
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龙图腾网恭喜京东方华灿光电(浙江)有限公司申请的专利改善胶材脱离的发光器件及其制备方法获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN119008655B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-05-23发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202411487423.0,技术领域涉及:H10H29/32;该发明授权改善胶材脱离的发光器件及其制备方法是由宋玉华;刘昭宇;赵世彬;张威设计研发完成,并于2024-10-24向国家知识产权局提交的专利申请。
本改善胶材脱离的发光器件及其制备方法在说明书摘要公布了:本公开提供了一种改善胶材脱离的发光器件及其制备方法,属于光电子制造技术领域。该发光器件包括:载板、多个像素芯片和承载胶层,多个所述像素芯片间隔排布在所述载板的板面上;所述承载胶层位于所述载板的板面上和多个所述像素芯片之间的间隙内,且所述承载胶层与所述像素芯片的侧壁相连,所述承载胶层的至少部分膜层为镂空结构。本公开能改善因承载胶层与像素芯片的粘附性变差,而使得承载胶层从像素芯片的侧壁上脱落的问题,提升发光器件的可靠性。
本发明授权改善胶材脱离的发光器件及其制备方法在权利要求书中公布了:1.一种发光器件,其特征在于,所述发光器件包括:载板(10)、多个像素芯片(20)和承载胶层(60),多个所述像素芯片(20)间隔排布在所述载板(10)的板面上;所述承载胶层(60)位于所述载板(10)的板面上和多个所述像素芯片(20)之间的间隙内,且所述承载胶层(60)与所述像素芯片(20)的侧壁相连,所述承载胶层(60)包括依次层叠的至少两层胶材层,所述胶材层中靠近所述载板(10)的所述胶材层具有镂空结构(61),所述胶材层中远离所述载板(10)的所述胶材层无所述镂空结构(61);同一所述胶材层中的所述镂空结构(61)呈网格状,在平行于所述载板(10)的方向上,所述镂空结构(61)从所述胶材层的一侧延伸至另一侧,所述镂空结构(61)还延伸至各所述像素芯片(20)的侧壁。
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