恭喜中国科学技术大学吴思获国家专利权
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龙图腾网恭喜中国科学技术大学申请的专利一种高力学强度和高分辨率的纳米压印光刻胶及其喷墨打印方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119556529B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-05-20发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202510103977.4，技术领域涉及：G03F7/027；该发明授权一种高力学强度和高分辨率的纳米压印光刻胶及其喷墨打印方法是由吴思;姜佳伟设计研发完成，并于2025-01-23向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种高力学强度和高分辨率的纳米压印光刻胶及其喷墨打印方法在说明书摘要公布了：本发明公开了一种高力学强度和高分辨率的纳米压印光刻胶及其喷墨打印方法。本发明纳米压印光刻胶主要针对喷墨打印与纳米压印技术的兼容性以及半导体领域中的高精度制造进行设计，在经过筛选与调配后，可以由喷墨打印头按需分配光刻胶液滴，快速打印所需图案，最后通过纳米压印光刻机曝光实现50nm的高分辨率压印。与现有技术中的纳米压印光刻胶相比，本发明的纳米压印光刻胶具有可快速喷墨打印、固化速率快、优异的抗氧阻聚性能、高力学强度、高分辨率和易于脱模等优点。本发明旨在提升纳米压印光刻胶在实际应用中的操作性与可靠性，在半导体先进制程等高精度制造领域具有潜在的应用前景。
本发明授权一种高力学强度和高分辨率的纳米压印光刻胶及其喷墨打印方法在权利要求书中公布了：1.一种纳米压印光刻胶，其特征在于其原料按质量百分比构成为：含双键的刚性单体85wt%~95wt%，含巯基的刚性化合物1wt%~5wt%，光引发剂1wt%~5wt%，有机溶剂0wt%~1wt%；所述含双键的刚性单体选自环己烷二甲醇二甲基丙烯酸酯、双酚A甘油酯、间苯二甲酸二乙二醇二丙烯酸酯、甲基丙烯酸丙酮缩甘油酯中的一种或几种；所述含巯基的刚性化合物选自四巯基苯、1,3,5-苯三硫酚中的一种或几种。
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