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龙图腾网恭喜北京特思迪半导体设备有限公司申请的专利晶圆膜厚测量不确定度的确定方法及设备获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119694921B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-05-20发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202510208526.7，技术领域涉及：H01L21/66；该发明授权晶圆膜厚测量不确定度的确定方法及设备是由周惠言;蒋继乐设计研发完成，并于2025-02-25向国家知识产权局提交的专利申请。

本晶圆膜厚测量不确定度的确定方法及设备在说明书摘要公布了：本发明提供一种晶圆膜厚测量不确定度的确定方法及设备。应用于高精度测量技术领域。该方法包括：获取晶圆膜厚测量装置对晶圆膜厚测量的不确定度分量；不确定度分量包括波长测量不确定度、折射率测量不确定度、折射角测量不确定度、电压测量不确定度、标准晶圆的标定系数偏差引起的不确定度；利用不确定度、、、、确定合成标准不确定度。本发明提高了晶圆膜厚测量过程中电压信号的准确性，进一步实现抛光工艺终点的精确控制。

本发明授权晶圆膜厚测量不确定度的确定方法及设备在权利要求书中公布了：1.一种晶圆膜厚测量不确定度的确定方法，其特征在于，包括：获取晶圆膜厚测量装置对晶圆膜厚测量的不确定度分量；所述晶圆膜厚测量装置包括光源、透镜、反射镜和光电二极管，其中所述光源用于发出光束，所述透镜用于对光束进行扩束和准直后，将点光源转成线光源，所述反射镜用于将线光源进行反射，以照射至晶圆表面，所述光电二极管用于接收晶圆表面反射的反射光并产生电信号；所述不确定度分量包括波长测量不确定度、折射率测量不确定度、折射角测量不确定度、电压测量不确定度、标准晶圆的标定系数偏差引起的不确定度；利用不确定度、、、、确定合成标准不确定度；其中，利用如下方式计算不确定度：获取光源稳定性误差和波长校准装置的波长校准误差；根据所述光源稳定性误差和所述波长校准误差计算不确定度；利用如下方式计算不确定度：通过膜厚测量设备获取标准晶圆的真实膜厚值并获取其所对应的反射率；多次获取已知真实膜厚值的标准晶圆对应的电压值，并计算所述电压值的标准差s；根据重复性测量结果的次数和多次获取标准晶圆的真实膜厚值对应的电压值计算重复性测量结果的电压平均值；根据重复性测量结果的次数、标准差s及电压平均值计算不确定度；利用如下方式计算不确定度：根据所述电压平均值、膜厚-电压曲线拟合误差带来的不确定度一、由膜厚测量仪器误差产生的不确定度二、线路噪声误差产生的不确定度三、AD转换误差引起的不确定度四计算不确定度；利用如下方式确定合成标准不确定度： ;其中，表示晶圆膜厚，表示光源的波长，表示晶圆薄膜的折射率，为折射到晶圆薄膜表面后的角度，表示电压，表示标定系数。

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